[發明專利]形狀測量裝置

有效

• 申請號: 201710939654.4
• 申請日: 2017-10-11
• 公開（公告）號: CN107941164B
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發明（設計）人: 跡路隆;秋柴雄二
• 申請（專利權）人: 株式會社基恩士
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 李銘;崔利梅

1.一種形狀測量裝置，其測量測量對象的表面形狀，所述形狀測量裝置包括：

光投射部，其被配置為發射具有多個峰值波長的光；

參考體；

第一光接收部，其包括二維排列的多個像素；

光學系統，其被配置為：將由所述光投射部發射的光作為測量光引導到所述測量對象，將由所述光投射部發射的光作為參考光引導到所述參考體，產生由所述測量對象反射的所述測量光與由所述參考體反射的所述參考光的干涉光，以及將產生的干涉光引導到所述第一光接收部；

可移動部，所述光學系統和所述參考體中的至少一個附接至所述可移動部，所述可移動部往復運動，從而改變所述測量光的光程與所述參考光的光程之差；

支撐部，其被配置為支撐所述可移動部以能夠往復運動；

位置檢測部，其被配置為檢測所述可移動部相對于所述支撐部的相對位置；

形狀獲取部，其被配置為基于由所述位置檢測部檢測出的所述相對位置和所述第一光接收部的多個像素的光接收量，來獲取所述測量對象的多個部分的表面形狀；

平衡部，其被支撐以能夠相對于所述支撐部往復運動；以及

第一驅動部，其被配置為使所述可移動部與所述平衡部相對于所述支撐部沿彼此相反的方向往復運動。

2.根據權利要求1所述的形狀測量裝置，其中，所述光投射部發射相干性高于白光的相干性且低于激光的相干性的光。

3.根據權利要求1或2所述的形狀測量裝置，還包括被配置為連接所述可移動部和所述平衡部的彈性元件。

4.根據權利要求3所述的形狀測量裝置，其中

往復機構由所述彈性元件、所述可移動部和所述平衡部來配置，并且

所述彈性元件的彈簧常數被設置為使得所述往復機構的固有頻率處于相對所述往復機構的振動頻率的固定范圍內。

5.根據權利要求1、2和4中任一項所述的形狀測量裝置，其中，所述第一驅動部附接至所述可移動部與所述平衡部之間，以與所述支撐部機械隔離。

6.根據權利要求1、2和4中任一項所述的形狀測量裝置，還包括被配置為能夠平行于一個方向滑動的第一滑動部和第二滑動部，其中

所述可移動部和所述平衡部經由所述第一滑動部和所述第二滑動部分別附接到所述支撐部以能夠往復運動。

7.根據權利要求6所述的形狀測量裝置，還包括：

第三滑動部，其被配置為能夠平行于一個方向滑動

板部，其被支撐以能夠相對于所述支撐部往復運動；以及

第二驅動部，其被配置為使所述板部相對于所述支撐部往復運動，其中

所述第一滑動部、所述第二滑動部和所述第三滑動部中的每一個是直線運動軸承，

所述第一滑動部設置在所述可移動部中和所述板部的一個表面上，

所述第二滑動部設置在所述平衡部中和所述板部的一個表面上，

所述第三滑動部設置在所述板部的另一個表面上和所述支撐部中，

所述第二驅動部使所述板部往復運動，使得所述第一滑動部、所述第二滑動部和所述第三滑動部中的每一個中的滾動元件滾動一圈或更多。

8.根據權利要求7所述的形狀測量裝置，其中

所述板部包括第一部分、第二部分和第三部分，

所述第一部分的一個表面與所述可移動部之間的間隔大于所述第三部分的一個表面與所述可移動部之間的間隔，

所述第二部分的一個表面與所述平衡部之間的間隔大于所述第三部分的所述一個表面與所述平衡部之間的間隔，

所述第三部分的另一個表面與所述支撐部之間的間隔大于所述第一部分的另一個表面與所述支撐部之間的間隔以及所述第二部分的另一個表面與所述支撐部之間的間隔，

所述第一滑動部設置在所述第一部分的所述一個表面上，

所述第二滑動部設置在所述第二部分的所述一個表面上

所述第三滑動部設置在所述第三部分的所述另一個表面上。