[發明專利]一種應用于調濕陶瓷磚的光催化釉料及其制備方法有效
| 申請號： | 201710939420.X | 申請日： | 2017-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN107651851B | 公開（公告）日： | 2020-06-16 |
| 發明（設計）人： | 柯善軍;田維 | 申請（專利權）人： | 佛山歐神諾陶瓷有限公司 |
| 主分類號： | C03C8/20 | 分類號： | C03C8/20;C03C8/16;C03C8/06;C03C8/04 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 王國標 |
| 地址： | 528137 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 應用于 陶瓷磚 光催化 釉料 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種應用于調濕陶瓷磚的光催化釉料，其特征在于，按原料重量份計由如下組分組成：
所述低溫熔塊按原料重量份計包括如下組分：
2.根據權利要求1所述的一種應用于調濕陶瓷磚的光催化釉料，其特征在于：所述銳鈦礦型二氧化鈦的平均粒徑為1～10nm。
3.根據權利要求1所述的一種應用于調濕陶瓷磚的光催化釉料，其特征在于：所述親水型氣相白炭黑的比表面積為150～500g/m2。
4.根據權利要求1所述的一種應用于調濕陶瓷磚的光催化釉料，其特征在于：所述碳酸鈣的平均粒徑為75μm。
5.根據權利要求1所述的一種應用于調濕陶瓷磚的光催化釉料，其特征在于：所述膨潤土的平均粒徑為75μm。
6.根據權利要求1所述的一種應用于調濕陶瓷磚的光催化釉料，其特征在于：所述分散劑選自磷酸鈉、六偏磷酸鈉、三聚磷酸鈉、聚丙烯酸鈉中的至少一種。
7.一種如權利要求1～6任一項所述的應用于調濕陶瓷磚的光催化釉料的制備方法，其特征在于，包括如下工藝步驟：按原料重量份計將各組分倒入容器中混合，濕法研磨0.5～3h，篩網除雜，得光催化釉料。
8.根據權利要求7所述的一種應用于調濕陶瓷磚的光催化釉料的制備方法，其特征在于：所述篩網除雜為將漿料過325目不銹鋼篩網后篩余小于0.2％。
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