[發明專利]防護蓋

有效

• 申請號: 201710939111.2
• 申請日: 2017-09-30
• 公開（公告）號: CN107755393B
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: 袁朝煜
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: B08B13/00
• 分類號: B08B13/00;H01L21/67;H01L51/56
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種防護蓋，用于防護基板上的電路板組件，其特征在于，

包括薄層狀的吸附件，所述吸附件具有吸附面，所述吸附面的法線垂直于所述吸附件的厚度方向，所述吸附件內設有氣體流道，所述氣體流道的延伸軌跡包括位于所述吸附件的厚度方向上的相對兩面之間的部分，所述氣體流道具有入口和出口，所述出口位于所述吸附面，所述入口位于所述吸附件上除所述吸附面之外的表面,所述入口用于連接氣源；所述吸附面設有由柔性材料制成的吸附膜，所述吸附膜上開設有通孔，所述通孔與所述出口對接，所述通孔用于使得所述氣體流道與所述基板的表面相通，所述吸附膜用于吸附在所述基板上，以使所述防護蓋遮蓋所述電路板組件。

2.根據權利要求1所述的防護蓋，其特征在于，

所述氣體流道包括第一流道、第二流道和第三流道，所述第一流道、所述第二流道及所述第三流道依次相連；所述第一流道遠離所述第二流道的一端貫通所述吸附件上除所述吸附面之外的表面以形成所述入口；所述第三流道遠離所述第二流道的一端貫通所述吸附面以形成所述出口。

3.根據權利要求2所述的防護蓋，其特征在于，

所述第一流道為至少兩個，每個所述第一流道均具有所述入口；所述第二流道為一個，所述第二流道與兩個所述第一流道均連通；所述第三流道為多個，每個所述第三流道均具有所述出口且均與所述第二流道連通；所述通孔為多個，多個所述通孔與多個所述出口一對一對接。

4.根據權利要求2或3所述的防護蓋，其特征在于，

所述第一流道、所述第二流道及所述第三流道均位于同一平面內。

5.根據權利要求4所述的防護蓋，其特征在于，

所述入口位于與所述吸附面平行相對的所述吸附件的表面。

6.根據權利要求1-3中任一項所述的防護蓋，其特征在于，

所述入口設有氣閥，所述氣閥用于連接氣源。

7.根據權利要求1-3中任一項所述的防護蓋，其特征在于，

所述防護蓋還包括支撐板，所述吸附件與所述吸附膜均層疊在所述支撐板上。

8.根據權利要求7所述的防護蓋，其特征在于，

所述支撐板為金屬薄片。

9.根據權利要求8所述的防護蓋，其特征在于，

所述吸附件由柔性材料制成，以使所述防護蓋具有彈性折彎性能。

10.根據權利要求7所述的防護蓋，其特征在于，

所述防護蓋還包括設于所述支撐板上的保護膜，所述保護膜與所述吸附件分別位于所述支撐板的相對兩面。