[發(fā)明專利]平面研磨裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710938104.0 | 申請日： | 2017-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN107914212B | 公開（公告）日： | 2021-03-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 井上裕介;吉原秀明 | 申請（專利權(quán)）人： | 創(chuàng)技股份有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/08 | 分類號： | B24B37/08;B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人： | 陳偉;劉偉志 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 平面 研磨 裝置 | ||
1.一種平面研磨裝置，具有被旋轉(zhuǎn)自如地支承于機(jī)體的上定盤及下定盤，在該上定盤與下定盤之間夾持工件，使兩定盤旋轉(zhuǎn)來對所述工件的兩面進(jìn)行研磨，該平面研磨裝置的特征在于，
所述平面研磨裝置具備工件計(jì)測機(jī)構(gòu)，該工件計(jì)測機(jī)構(gòu)使用激光對所述工件進(jìn)行計(jì)測，
所述工件計(jì)測機(jī)構(gòu)具有：計(jì)測器，其將所述激光向所述工件照射，并且接收來自所述工件的反射光；和光傳送路徑，其從光源向所述計(jì)測器傳送所述激光，
所述計(jì)測器安裝于所述上定盤及下定盤中的一方，
所述光傳送路徑具備：光旋轉(zhuǎn)接頭，其配置在安裝有所述計(jì)測器的定盤的旋轉(zhuǎn)軸線上；一次側(cè)光路，其將所述光旋轉(zhuǎn)接頭的一次側(cè)與所述光源連接；和二次側(cè)光路，其將所述光旋轉(zhuǎn)接頭的二次側(cè)與所述計(jì)測器連接，
所述光旋轉(zhuǎn)接頭具有：靜止側(cè)接頭部，其與所述一次側(cè)光路連接并相對于機(jī)體固定地設(shè)置；和旋轉(zhuǎn)側(cè)接頭部，其與所述二次側(cè)光路連接并與安裝有所述計(jì)測器的定盤一起旋轉(zhuǎn)，
在所述一次側(cè)光路中除了所述靜止側(cè)接頭部的位置，設(shè)有輸出圓偏振的激光的圓偏振光輸出部，
從所述圓偏振光輸出部通過一次側(cè)光路而傳送到所述靜止側(cè)接頭部的圓偏振的激光，從所述靜止側(cè)接頭部入射到所述旋轉(zhuǎn)側(cè)接頭部。
2.一種平面研磨裝置，具有支承于機(jī)體的定盤和保持工件的保持部，使所述定盤和保持部中的至少一方旋轉(zhuǎn)，在使所述工件與所述定盤接觸的狀態(tài)下對工件的單面進(jìn)行研磨，所述平面研磨裝置的特征在于，
所述平面研磨裝置具備工件計(jì)測機(jī)構(gòu)，該工件計(jì)測機(jī)構(gòu)使用激光對所述工件進(jìn)行計(jì)測，
所述工件計(jì)測機(jī)構(gòu)具有：計(jì)測器，其將所述激光向所述工件照射，并且接收來自所述工件的反射光；和光傳送路徑，其從光源向所述計(jì)測器傳送激光，
所述計(jì)測器安裝于所述定盤及保持部中的一方，
所述光傳送路徑具備：光旋轉(zhuǎn)接頭，其設(shè)置在安裝有所述計(jì)測器的定盤或保持部的旋轉(zhuǎn)軸線上；一次側(cè)光路，其將所述光旋轉(zhuǎn)接頭的一次側(cè)與所述光源連接；和二次側(cè)光路，其將所述光旋轉(zhuǎn)接頭的二次側(cè)與所述計(jì)測器連接，
所述光旋轉(zhuǎn)接頭具有：靜止側(cè)接頭部，其與所述一次側(cè)光路連接并相對于機(jī)體固定地設(shè)置；和旋轉(zhuǎn)側(cè)接頭部，其與所述二次側(cè)光路連接并與所述定盤和保持部中的至少一方一起旋轉(zhuǎn)，
在所述一次側(cè)光路中除了所述靜止側(cè)接頭部的位置，設(shè)有輸出圓偏振的激光的圓偏振光輸出部，
從所述圓偏振光輸出部通過一次側(cè)光路而傳送到所述靜止側(cè)接頭部的圓偏振的激光，從所述靜止側(cè)接頭部入射到所述旋轉(zhuǎn)側(cè)接頭部。
3.如權(quán)利要求1或2所述的平面研磨裝置，其特征在于，
所述圓偏振光輸出部是用于將在所述一次側(cè)光路中傳送的激光的偏振轉(zhuǎn)換為圓偏振的圓偏振光調(diào)整用偏振波調(diào)整器。
4.如權(quán)利要求3所述的平面研磨裝置，其特征在于，
在所述二次側(cè)光路中設(shè)有直線偏振光調(diào)整用偏振波調(diào)整器，其用于將在所述二次側(cè)光路中傳送的激光的偏振轉(zhuǎn)換為直線偏振。
5.如權(quán)利要求4所述的平面研磨裝置，其特征在于，
所述計(jì)測器具有：偏振光分束器，其將從所述二次側(cè)光路傳送的直線偏振的激光分離為第1激光和第2激光；波片，其使所述第1激光及第2激光的偏振成為圓偏振；和反射片，其將從所述波片通過后的第1激光反射，使其再次向所述波片入射，
將所述第2激光向所述工件照射，并通過所述偏振光分束器將由所述工件反射的反射光、和由所述反射片反射的第1激光的反射光進(jìn)行合成。
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