[發明專利]一種ZnO基自支撐薄膜的制備方法在審
| 申請號: | 201710933791.7 | 申請日: | 2017-10-10 |
| 公開(公告)號: | CN107887452A | 公開(公告)日: | 2018-04-06 |
| 發明(設計)人: | 葉建東;張彥芳;任芳芳;朱順明;唐東明;楊燚;顧書林 | 申請(專利權)人: | 南京大學 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0264;H01L31/18 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙)32249 | 代理人: | 陳建和 |
| 地址: | 210093 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 zno 支撐 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種ZnO基自支撐薄膜的制備方法,其特征是ZnO基薄膜是在藍寶石襯底上使用MOCVD方法生長的外延層薄膜,采用先低溫緩沖層然后現高溫外延生長相結合的兩步生長法,解決藍寶石襯底與ZnO材料之間的失配;低溫緩沖層厚度約為200-400nm,高溫外延層厚度約為2-5μm;然后采用激光剝離的方法將制備的ZnO基外延層與藍寶石襯底的分離:激光剝離外延層時,調節激光光束聚焦于樣品,從藍寶石一側照射樣品,藍寶石對該入射激光透明,而ZnO對該激光有強烈吸收。
2.根據權利要求1所述的ZnO基自支撐薄膜的制備方法,其特征是使用特定波長的激光(如248nm的KrF準分子激光),使ZnO基外延層和異質藍寶石襯底分離,入射激光能量密度,對于上述藍寶石襯底上的ZnO外延層,激光能量密度需大于650mJ/cm2,通過激光掃描方式獲得大面積自支撐薄膜。
3.根據權利要求1所述的ZnO基自支撐薄膜的制備方法,其特征是通過金屬熔融鍵合技術將自支撐外延層薄膜轉移至新襯底,轉移至的新襯底材料是Cu、Si襯底或者其它高熱導率和高電導率的支撐材料或PET等柔性襯底。
4.根據權利要求3所述的ZnO基自支撐薄膜的制備方法,其特征是自支撐外延層薄膜轉移至新襯底步驟為:
(1)將生長在藍寶石襯底上的ZnO基外延層面向新襯底貼緊固定,平整的新襯底對即將分離的ZnO基薄膜起支撐作用;
(2)調節激光光束聚焦于樣品,使用特定波長并且功率足夠的激光自藍寶石一面入射至樣品,可通過激光掃描方式獲得大面積自支撐薄膜;
(3)ZnO基外延層和藍寶石異質襯底分離,獲得ZnO基自支撐薄膜;
(4)使用金屬熔融鍵合技術將自支撐薄膜轉移到Cu、Si襯底或者其他高熱導率和高電導率的支撐材料或PET等柔性襯底。
5.根據權利要求3所述的ZnO基自支撐薄膜的制備方法,其特征是應用于剝離藍寶石襯底上的ZnO外延層或剝離藍寶石襯底上包括ZnMgO/ZnO的ZnO基異質結。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





