[發(fā)明專利]一種醫(yī)用植入材料用鎂-銀-銅涂層及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710933687.8
• 申請(qǐng)日: 2017-10-10
• 公開（公告）號(hào): CN109652766B
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 于曉明;譚麗麗;楊柯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院金屬研究所
• 主分類號(hào): C23C14/16
• 分類號(hào): C23C14/16;C23C14/20;C23C14/32;A61L27/30;A61L27/54;A61L27/58
• 代理公司: 沈陽(yáng)晨創(chuàng)科技專利代理有限責(zé)任公司 21001
• 代理人: 崔曉蕾

1.一種醫(yī)用植入材料用鎂-銀-銅涂層，其特征在于：鎂-銀-銅涂層的厚度為0.1-200μm，涂層中銀元素的質(zhì)量百分比為：0％＜Ag≤10％，銅元素的質(zhì)量百分比為：0％＜Cu＜2％；涂層中銀銅元素的質(zhì)量比為Ag：Cu＝5-10:1。

2.按照權(quán)利要求1所述鎂-銀-銅涂層，其特征在于：所用基體為實(shí)體或多孔結(jié)構(gòu)，采用鈦、鈦合金、不銹鋼或高分子材料制成。

3.按照權(quán)利要求2所述鎂-銀-銅涂層，其特征在于：所用實(shí)體基體為醫(yī)用材料；所用多孔結(jié)構(gòu)基體的孔隙率≧80％，孔徑為200μm-5mm。

4.按照權(quán)利要求1所述鎂-銀-銅涂層，其特征在于：所述涂層中引入金屬鍶，其質(zhì)量百分比為0％＜Sr≤10％。

5.一種按照權(quán)利要求1所述鎂-銀-銅涂層的制備方法，其特征在于：采用多弧離子鍍技術(shù)制備所述涂層。

6.按照權(quán)利要求5所述鎂-銀-銅涂層制備方法，其特征在于：偏壓為50-150V，弧流為30-100A，占空比為20％-60％。

7.按照權(quán)利要求5所述鎂-銀-銅涂層制備方法，其特征在于：工作氣壓為1×10^-2-10Pa，軸向磁場(chǎng)為0-100mT。

8.按照權(quán)利要求5所述鎂-銀-銅涂層制備方法，其特征在于，具體制備步驟如下：

(1)、合金靶的制備：采用純度為99.99％的鎂、銀、銅純金屬進(jìn)行熔煉，得到合金錠，然后按照多弧離子鍍?cè)O(shè)備所要求的靶材尺寸加工成陰極靶；

(2)、將基體依次用去離子水、無水乙醇超聲清洗后，干燥氮?dú)獯蹈伤腿氤练e室；

(3)、抽極限真空至10^-5Pa，后充入氬氣，使鍍膜室真空度達(dá)到1.8×10^-1-2.5×10^-1Pa，開啟弧源，離子轟擊清洗5-10分鐘，然后在設(shè)定條件下進(jìn)行涂層制備。

9.一種權(quán)利要求1所述涂層在醫(yī)用植入材料上的應(yīng)用，其特征在于：所述醫(yī)用植入材料為需承力部位所用植入物。