[發明專利]陽極氧化電解液及陽極氧化方法、殼體及制備方法、移動終端

在審

• 申請號: 201710931486.4
• 申請日: 2017-10-09
• 公開（公告）號: CN107653473A
• 公開（公告）日: 2018-02-02
• 發明（設計）人: 侯體波
• 申請（專利權）人: 廣東歐珀移動通信有限公司
• 主分類號: C25D11/08
• 分類號: C25D11/08;C25D11/10;H04M1/02
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙)11201
• 代理人: 趙天月

1.一種用于處理金屬基板的陽極氧化電解液，其特征在于，包括：鉻酸以及硼酸，其中，

所述鉻酸的濃度為50-150g/l，所述硼酸的濃度為30-60g/l。

2.根據權利要求1所述的陽極氧化電解液，其特征在于，進一步包括：

草酸，所述草酸的濃度為0-40g/l。

3.一種對金屬基板進行陽極氧化的方法，其特征在于，包括：

利用權利要求1或2所述的陽極氧化電解液，對所述金屬基板進行氧化處理。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述氧化處理的溫度為35-55度、電壓為30-50V，處理時間為60-120min。

5.一種制備板材的方法，其特征在于，包括：

利用權利要求3或4所述的方法，對金屬基板進行陽極氧化處理；

對經過所述陽極氧化處理的金屬基板，進行后處理，以便獲得所述板材。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，在進行所述陽極氧化處理之前，進一步包括：

對所述金屬基板進行鏡面研磨處理。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，在進行所述陽極氧化處理之前，進一步包括：

對所述金屬基板進行拋光處理；

對經過所述拋光處理的金屬基板進行噴砂處理。

8.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述后處理包括以下步驟的至少之一：

鏡面研磨處理；以及

光學鍍膜處理。

9.一種殼體，其特征在于，所述殼體的至少一部分，是利用權利要求5-8任一項所述的方法制備的。

10.根據權利要求9所述的殼體，其特征在于，所述殼體為移動終端的背板、中框或外邊框。

11.一種移動終端，其特征在于，所述移動終端包括權利要求9或10所述的殼體。