[發明專利]曝光裝置、曝光方法以及元件的制造方法

有效

• 申請號: 201710931207.4
• 申請日: 2017-10-09
• 公開（公告）號: CN109634059B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 孫晶露;田毅強
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種曝光裝置，其特征在于，包括：

光學透鏡模塊，所述光學透鏡模塊具有一孔徑光闌，所述孔徑光闌用于調整所述光學透鏡模塊的數值孔徑，使所述光學透鏡模塊具備第一數值孔徑和第二數值孔徑；其中，所述第一數值孔徑大于所述第二數值孔徑；

照明模塊，用于提供一第一照明光源和一第二照明光源，且所述第一照明光源中心波長小于所述第二照明光源的中心波長，所述第二照明光源的譜線寬度大于所述第一照明光源的譜線寬度；

當所述光學透鏡模塊的數值孔徑為所述第一數值孔徑時，所述照明模塊提供所述第一照明光源，并照射至所述光學透鏡模塊；

當所述光學透鏡模塊的數值孔徑為所述第二數值孔徑時，所述照明模塊提供所述第二照明光源，并照射至所述光學透鏡模塊。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，其特征在于，所述光學透鏡模塊包括沿著所述光學透鏡模塊的光軸從物區域至像區域依次排布的第一透鏡組、第二透鏡組、孔徑光闌、第三透鏡組和第四透鏡組；所述孔徑光闌位于所述第二透鏡組和所述第三透鏡組之間。

3.根據權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，所述孔徑光闌為一可變光闌，所述可變光闌包括一葉片組合，所述葉片組合用于控制所述可變光闌的光孔直徑以所述光軸為圓心連續變化。

4.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述第一照明光源為i線的光源。

5.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述第二照明光源包括g線、h線和i線中的其中至少兩種光源。

6.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，還包括光源模塊，所述光源模塊提供一原始光源，所述光源通過所述照明模塊轉換為所述第一照明光源或所述第二照明光源。

7.根據權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述光源模塊利用一LED光源提供所述原始光源。

8.根據權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述照明模塊包括第一濾波片和第二濾波片；當所述原始光源通過所述第一濾波片后，轉換為所述第一照明光源，當所述原始光源通過所述第二濾波片后，轉換為所述第二照明光源。

9.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述第一數值孔徑的值為0.2～0.24。

10.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述第二數值孔徑的值為0.1～0.2。

11.根據權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，還包括掩膜臺和工作臺，所述光源模塊所提供的所述原始光源通過所述照明模塊轉換為所述第一照明光源或所述第二照明光源，所述第一照明光源或所述第二照明光源投射到所述掩膜臺上，經過所述掩膜臺的光源的光照射至所述光學透鏡模塊，以及，經由所述光學透鏡模塊的光源的光照射至所述工作臺上。

12.一種曝光方法，其特征在于，使用如權利要求1～11中任意一項所述的曝光裝置。

13.一種元件的制造方法，其特征在于，使用如權利要求12中所述的曝光方法。