[發明專利]一種光學器件均勻打磨的方法有效
| 申請號： | 201710923679.5 | 申請日： | 2017-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN107685284B | 公開（公告）日： | 2020-05-01 |
| 發明（設計）人： | 陸海鋒 | 申請（專利權）人： | 德清晶生光電科技有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/30 | 分類號： | B24B37/30;B24B55/00 |
| 代理公司： | 浙江英普律師事務所 33238 | 代理人： | 王炎軍 |
| 地址： | 313200 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光學 器件 均勻 打磨 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光學器件均勻打磨的方法，其步驟為：
S1、將游星輪放入拋光機中；
S2、將光學器件放入加工腔，所述加工腔設在游星輪的打磨孔中，加工腔可相對打磨孔自由轉動；
S3、開始打磨，游星輪隨拋光機主動輪轉動并具有自轉速度w1，加工腔隨游星輪和光學器件轉動并具有自轉速度w2，所述w1＞w2；
所述步驟S2中游星輪開設有圓環形滾道，所述滾道中設有滾珠，所述加工腔連接滾珠且不與游星輪接觸，所述加工腔與滾珠間通過彈簧連接；所述步驟S3中加工腔會相對游星輪的中心發生偏移。
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