[發(fā)明專利]窄帶反射膜的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710917485.4 | 申請日： | 2017-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN109597151B | 公開（公告）日： | 2021-04-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 于甄;張國臻;夏振 | 申請（專利權(quán)）人： | 張家港康得新光電材料有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/08 | 分類號： | G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人： | 韓建偉;梁文惠 |
| 地址： | 215634 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 窄帶 反射 制備 方法 | ||
1.一種窄帶反射膜的制備方法，其特征在于，所述窄帶反射膜包括透明基材層（10）和反射膜系，反射膜系包括n個(gè)高低折射率材料單元，所述高低折射率材料單元依次層疊所述透明基材層（10）的一個(gè)表面或兩個(gè)相對的表面上，各所述高低折射率材料單元包括一個(gè)高折射率材料層（21）和與之配對的一個(gè)低折射率材料層（22），所述制備方法包括：
提供反射膜系設(shè)計(jì)模塊，所述反射膜系設(shè)計(jì)模塊中設(shè)定：所述反射膜系中至少存在一個(gè)膜系結(jié)構(gòu)為│(α1Hβ1Lα2Hβ2L... αiHβiL...αmHβmL) │的膜堆（20），其中，H表示所述高折射率材料層（21），L表示所述低折射率材料層（22），n、m為正整數(shù)，且2＜n≤150，3＜m≤50，m＜n，同一個(gè)所述膜堆（20）中的α1，α2，...，αm以及βm，...，β2，β1各自獨(dú)立地滿足同一個(gè)余弦波形或正弦波形上的同一遞變規(guī)律；對于第i個(gè)所述高低折射率材料單元αiHβiL，1≤i≤n,αi表示第i個(gè)所述高折射率材料層（21）沿與所述透明基材層（10）垂直的方向上光學(xué)厚度占λ/4的倍數(shù)，βi表示第i個(gè)所述低折射率材料層（22）沿與所述透明基材層（10）垂直的方向上光學(xué)厚度占λ/4的倍數(shù)，λ為膜堆的監(jiān)控波長；
根據(jù)上述反射膜系設(shè)計(jì)模塊的設(shè)定，采用多層同時(shí)涂布工藝將包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步設(shè)置于所述透明基材層（10）的表面，干燥后得到所述膜堆（20），
采用多層涂布設(shè)備（40）實(shí)施所述多層同時(shí)涂布工藝，所述多層涂布設(shè)備（40）包括：
所述反射膜系設(shè)計(jì)模塊；
流量換算模塊，與所述反射膜系設(shè)計(jì)模塊相連，根據(jù)所述反射膜系設(shè)計(jì)模塊中設(shè)定的厚度計(jì)算所述第一涂料和所述第二涂料的流量；
可旋轉(zhuǎn)的涂布軸（430），所述涂布軸（430）用于承載所述透明基材層（10）；
涂布模塊，與所述流量換算模塊電連接根據(jù)所述流量換算模塊的流量控制所述第一涂料和第二涂料在所述涂布模塊的涂布量，
所述涂布模塊的上表面為沿靠近所述涂布軸（430）的方向向下傾斜的滑動面（420），且所述涂布模塊包括多個(gè)涂布頭（410），且各所述涂布頭（410）具有出口的表面構(gòu)成所述滑動面（420），所述涂布頭（410）的出口沿遠(yuǎn)離所述涂布軸（430）的方向平行排列，所述涂布軸的旋轉(zhuǎn)軸與所述涂布頭的排列方向垂直，
所述多層同時(shí)涂布工藝實(shí)施時(shí)，所述第一涂料以及所述第二涂料間隔地從不同的所述涂布頭（410）的出口流至所述滑動面（420）后流動至所述涂布軸（430）上的所述透明基材層（10）上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，設(shè)置同一個(gè)所述膜堆中的所述第一涂料相同，第二涂料相同；設(shè)置不同的所述膜堆中的第一涂料相同或不同，第二涂料相同或不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述多層同時(shí)涂布工藝的涂布速度為10~300m/min。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述滑動面（420）的與水平面的夾角為2~15°。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述高折射率材料層（21）的折射率為1.5~5.0，所述低折射率材料層（22）的折射率為1.1~1.5。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述高折射率材料層（21）的折射率為1.65~3.0。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的制備方法，其特征在于，所述低折射率材料層（22）的折射率為1.25~1.48。
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