[發明專利]聚酰亞胺基液體和使用其制備的聚酰亞胺基膜

有效

• 申請號: 201710916389.8
• 申請日: 2015-06-01
• 公開（公告）號: CN107522860B
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發明（設計）人: 尹哲民;申寶拉;鄭惠元;金璟晙;樸姮娥
• 申請（專利權）人: 株式會社LG化學
• 主分類號: C08G73/10
• 分類號: C08G73/10;C08J5/18;G09F9/30
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 鄭毅;趙丹

1.一種使用聚酰亞胺基溶液制備的聚酰亞胺基膜，其中所述聚酰亞胺基溶液包括具有式5結構的聚酰亞胺：

其中p、q和r代表相應重復單元的摩爾數量，并滿足以下關系：p+q+r＝1、0p≤0.9、0.1≤q≤0.9、和0r≤0.9；

X1至X3衍生自三種酸酐，其中X₁衍生自4,4'-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸酐，且X₂和X₃各自獨立地衍生自至少一種選自下述化合物的化合物：1,2,4,5-苯四酸二酐和3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐；且

Y₁至Y₃各自獨立地為衍生自2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺的二價有機基團，以及

溶劑，所述溶劑在25℃下具有正分配系數(LogP)，

其中，所述膜的厚度延遲(R_th)為至少100nm。

2.權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中所述聚酰亞胺基溶液在基板上的涂層在30℃的溫度下和70％的濕度下儲存30分鐘后具有1％以下的霧度。

3.權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中p、q和r滿足以下關系：0.3≤p/(p+q+r)≤0.7。

4.權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中p、q和r滿足以下關系：r/(p+q+r)不大于0.3或不大于0.2。

5.權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中p、q和r滿足以下關系：0p≤0.5和0.5≤q+r≤1。

6.權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中p、q和r滿足以下關系：p/(p+q+r)和r/(p+q+r)各自獨立地不大于0.4且0.5≤q/(p+q+r)≤0.8。

7.權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中所述聚酰亞胺基溶液使用Brookfield旋轉粘度計在25℃下測量的粘度為400cP至50,000cP。

8.權利要求1-7中任一項所述的聚酰亞胺基膜，其中所述聚酰亞胺的玻璃化轉變溫度為至少250℃，且所述膜在厚度為10至30μm范圍內時對380至760nm波長的光的透光率為至少85％。

9.權利要求1-7中任一項所述的聚酰亞胺基膜，其中所述膜在250℃下的熱膨脹系數(CTE)為70ppm/K以下。

10.權利要求1-7中任一項所述的聚酰亞胺基膜，其中所述膜的黃度指數(YI)為9以下，且模量為至少1.0GPa。

11.一種顯示基板，其包括權利要求1-10中任一項所述的聚酰亞胺基膜。

12.一種器件，其包括權利要求1-10中任一項所述的聚酰亞胺基膜。

13.一種權利要求1-10任一項所述的聚酰亞胺基膜的制備方法，將聚酰亞胺基溶液施用至基板的一個側面上，將聚酰亞胺基溶液固化以形成聚酰亞胺基膜，并將聚酰亞胺基膜從基板上分離。