[發明專利]一種用于高精度數控平面磨床的夾具平臺

有效

• 申請號: 201710914111.7
• 申請日: 2017-09-30
• 公開（公告）號: CN107685285B
• 公開（公告）日: 2019-08-20
• 發明（設計）人: 呂方;孫廷嗣;齊華;孟劍雄
• 申請（專利權）人: 湖州銘灝機械有限公司
• 主分類號: B23Q3/06
• 分類號: B23Q3/06;B24B41/06;B24B55/00
• 代理公司: 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109
• 代理人: 尉偉敏

1.一種用于高精度數控平面磨床的夾具平臺，包括平臺底座（1）以及平臺臺面（2），其特征是，所述的平臺底座（1）呈凹字形，其底部設有一個真空泵（8），所述的平臺底座（1）凹字形的兩個側面上端與平臺臺面（2）固定連接；所述的平臺臺面（2）呈長方形，所述的平臺臺面（2）內部向下設有一個定位凹腔（5），所述的定位凹腔（5）其內部還設有環繞定位凹腔（5）一周的支撐臺階（51），所述的定位凹腔（5）底部固定連接有若干個壓縮彈簧（6），所述的壓縮彈簧（6）在無壓縮情況下其上端面高于平臺臺面（2），受到 壓縮時其上端面低于定位凹腔（5）中的支撐臺階（51），所述的壓縮彈簧（6）上端還連接有一個支撐板（7），所述的定位凹腔（5）底部還設有一個抽氣口（11），所述的抽氣口（11）與真空泵（8）之間設有一個三通閥門（9），所述的三通閥門（9）一端與真空泵（8）管路連接，一端與抽氣口（11）管路連接，另一端與空氣相通；所述的平臺臺面（2）邊緣還設有若干與平臺臺面（2）固定連接的豎直氣缸（3）與水平氣缸（4），所述的豎直氣缸（3）頂端還設有向定位凹腔（5）延伸的壓板（31），所述的水平氣缸（4）前端還設有一個朝向定位凹腔（5）的推板（41）。

2.根據權利要求1所述的一種用于高精度數控平面磨床的夾具平臺，其特征是，所述的支撐臺階（51）上方還覆有一層密封硅膠層（12）。

3.根據權利要求1所述的一種用于高精度數控平面磨床的夾具平臺，其特征是，所述的支撐板（7）表面設有若干增大摩擦力的細小凸塊（71）。

4.根據權利要求1所述的一種用于高精度數控平面磨床的夾具平臺，其特征是，所述的平臺臺面（2）的兩條長邊的底部設有兩個相互對稱的豎直氣缸（3），與這兩個豎直氣缸（3）較遠的一條短邊的中心也設有一個豎直氣缸（3）。

5.根據權利要求4所述的一種用于高精度數控平面磨床的夾具平臺，其特征是，所述的所在平臺臺面（2）短邊的中心的豎直氣缸（3）前端還設有一個定位板（10）。

6.根據權利要求1或4所述的一種用于高精度數控平面磨床的夾具平臺，其特征是，所述的豎直氣缸（3）頂端的壓板（31）其頭部設有一個向下的壓頭（32）。

7.根據權利要求1所述的一種用于高精度數控平面磨床的夾具平臺，其特征是，所述的平臺臺面（2）的兩條長邊上分別設有兩個相對對稱的水平氣缸（4）。

8.根據權利要求1或7所述的一種用于高精度數控平面磨床的夾具平臺，其特征是，所述的推板（41）上還設有兩個朝向定位凹腔（5）設置的推頭（42）。