[發明專利]一種低激光反射率粉末顆粒及制備方法

有效

• 申請號: 201710909364.5
• 申請日: 2017-09-29
• 公開（公告）號: CN107824785B
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發明（設計）人: 周海濤;劉大博;羅飛;羅炳威;田野;陳冬生
• 申請（專利權）人: 中國航發北京航空材料研究院
• 主分類號: B22F1/02
• 分類號: B22F1/02;C23C16/26;C23C16/02;C23C16/505;B33Y70/00
• 代理公司: 中國航空專利中心 11008
• 代理人: 梁瑞林

1.一種低激光反射率粉末顆粒的制備方法，其特征在于，制備的步驟如下：

1.1、粉末洗滌：按1g球形內核加入至少10ml無水酒精的比例稱取原料，將球形內核和無水酒精放入燒杯中混合，超聲混合至少20min，靜置至少30min，倒掉酒精溶液，放入真空烘箱烘干，烘箱真空度至少為10Pa，溫度為60℃～120℃，烘干至少1h；

1.2、制備納米催化劑顆粒：

1.2.1、待烘箱溫度降至室溫后，取出燒杯，按1g球形內核加入50ml～100ml蒸餾水的比例加入蒸餾水，按1g球形內核加入0.002g～0.009g催化劑前軀體的比例加入催化劑前軀體，催化劑前軀體為六水硝酸鎳、三水硝酸銅或九水硝酸鋁，加入催化劑前軀體后，攪拌至少20min；

1.2.2、然后緩慢滴入濃度為20％～40％的氨水溶液，直至溶液pH值達到中性，靜置至少2h，形成懸濁液；

1.2.3、將懸濁液放入離心機中進行離心分離至少2min,然后用蒸餾水洗滌；再次進行離心分離和洗滌至少2次；

1.2.4、取出沉淀物放入真空烘箱中，烘箱真空度至少為10Pa，溫度為150℃～250℃，時間至少2h；即得到納米催化劑顆粒；

1.3、石墨片沉積：將納米催化劑顆粒從燒杯轉移至石英坩堝，將石英坩堝放入石英管中，并使坩堝正好位于等離子射頻線圈正下方；將石英管內部抽真空至6x10^-2Pa，通入甲烷氣體，流量為20sccm～35sccm，保持真空度為140Pa～400Pa；打開射頻源開始沉積石墨片，射頻源功率為250W～400W，沉積時間為15min～30min；然后關閉射頻源和甲烷氣體，通入100sccm氬氣，保持真空度為200Pa；至少1h后關閉氬氣，停止抽真空，取出石英坩堝，即得到低激光反射率粉末顆粒。

2.使用如權利要求1所述的制備方法制備的一種低激光反射率粉末顆粒，其特征在于：它具有球形內核和覆蓋于球形內核表面的石墨片包覆層，所述球形內核為鋁粉顆粒、銅粉顆粒或鎳基高溫合金粉末顆粒；石墨片包覆層厚度為100nm～5um。

3.根據權利要求2所述的低激光反射率粉末顆粒，其特征在于：所述的球形內核的粒度為50目～500目。