[發明專利]一種帶晶界圖案的鋁合金二次陽極氧化處理方法

有效

• 申請號: 201710906217.2
• 申請日: 2017-09-29
• 公開（公告）號: CN107747115B
• 公開（公告）日: 2019-08-20
• 發明（設計）人: 陳云;江占魁
• 申請（專利權）人: 昌宏精密刀具（東莞）有限公司
• 主分類號: C25D11/08
• 分類號: C25D11/08;C25D11/12;C25D11/16;C23F1/20
• 代理公司: 東莞市冠誠知識產權代理有限公司 44272
• 代理人: 張作林

1.一種帶晶界圖案的鋁合金二次陽極氧化處理方法，其特征在于：包括如下步驟：a、第一次拋光：對鋁合金基材表面進行拋光并清洗干凈；b、晶界蝕刻：采用蝕刻藥水浸泡基材，對其表面的晶界進行選擇性侵蝕，之后將基材取出依次進行水洗、中和、水洗處理，使材料表面呈現出明顯的晶界圖案；c、第一次陽極氧化：對基材進行第一次陽極氧化處理，工序為：陽極氧化、清洗、活化、清洗、染色、清洗、封孔、清洗、烘干；使其表面及晶界凹槽內壁上均勻生成一層帶有所需顏色的氧化膜；d、第二次拋光：對基材進行拋光處理并清洗干凈，使其表面的陽極氧化膜被均勻去除并剛好裸露出底層基材，但保留了晶界凹槽內壁上的氧化膜；e、第二次陽極氧化：對基材進行第二次陽極氧化處理，使其表面除晶界凹槽以外的區域，即晶粒表面生成一層帶有所需顏色的氧化膜，工序為：陽極氧化、清洗、活化、清洗、染色、清洗、封孔、清洗、烘干；步驟b中的蝕刻藥水由硫酸、磷酸、鋁離子、去離子水組成；硫酸與磷酸的體積比為4：0-1：3，硫酸與磷酸的體積之和與去離子水的體積比為1:3-3:1，鋁離子濃度為0.001-7g/l。

2.根據權利要求1所述的帶晶界圖案的鋁合金二次陽極氧化處理方法，其特征在于：所述步驟a中經過拋光并清洗干凈鋁合金基材表面糙度優選為低于0.1微米。

3.根據權利要求1所述的帶晶界圖案的鋁合金二次陽極氧化處理方法，其特征在于：步驟b中晶界圖案中的凹槽平均深度和平均寬度分別為10-50微米和40-110微米。

4.根據權利要求1所述的帶晶界圖案的鋁合金二次陽極氧化處理方法，其特征在于：所用硫酸質量濃度為98％，磷酸質量濃度為85％，鋁離子通過往配方中添加溶解含鋁的硫酸鹽或磷酸鹽獲得。

5.根據權利要求1所述的帶晶界圖案的鋁合金二次陽極氧化處理方法，其特征在于：蝕刻藥水的應用條件為：溫度85-95℃,浸泡時間15-60分鐘。

6.根據權利要求1所述的帶晶界圖案的鋁合金二次陽極氧化處理方法，其特征在于：所述中和處理采用1％碳酸鈉溶液，處理溫度為室溫，時間30-120秒。

7.根據權利要求1所述的帶晶界圖案的鋁合金二次陽極氧化處理方法，其特征在于：第一次陽極氧化表面生成的氧化膜厚度為6～12微米，第二次陽極氧化后表面生成的氧化膜厚度為10～15微米。

8.根據權利要求1所述的帶晶界圖案的鋁合金二次陽極氧化處理方法，其特征在于：陽極氧化條件為，槽液為180-210g/l游離硫酸，含5-15g/l鋁離子，溫度18-22℃，一次陽極氧化采用電流密度1.2-1.8A/dm²，二次陽極氧化采用電流密度0.8-1.2A/dm²。