[發明專利]疊層OLED顯示面板及其制造方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 201710900924.0 | 申請日: | 2017-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN107464833B | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發明(設計)人: | 葉志杰;彭銳;王欣欣;竇義坤;賈文斌;胡月 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京律智知識產權代理有限公司 11438 | 代理人: | 王輝;闞梓瑄 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | oled 顯示 面板 及其 制造 方法 顯示裝置 | ||
1.一種疊層OLED顯示面板,其特征在于,包括:
像素限定層,包括多條像素限定區,所述像素限定區交叉形成多個開口;
第一電荷產生層,具有第一摻雜類型,位于所述像素限定層上和所述開口中;
阻隔層,位于所述第一電荷產生層對應所述像素限定區的部分上;
第二電荷產生層,具有第二摻雜類型,位于所述阻隔層和未被所述阻隔層覆蓋的所述第一電荷產生層上。
2.根據權利要求1所述的疊層OLED顯示面板,其特征在于:所述疊層OLED顯示面板還包括:
第一電致發光層,位于第一電極和所述第一電荷產生層之間;
第二電致發光層,位于所述第二電荷產生層和第二電極之間。
3.根據權利要求1或2所述的疊層OLED顯示面板,其特征在于,所述像素限定區具有凹陷結構。
4.根據權利要求3所述的疊層OLED顯示面板,其特征在于,所述像素限定區的凹陷結構是通過對所述像素限定區干法刻蝕、濕法刻蝕或納米壓印形成。
5.根據權利要求1所述的疊層OLED顯示面板,其特征在于,所述阻隔層選自氧化硅、氮化硅、氧化鋁、氮化鋁、聚合物中的一種或多種。
6.根據權利要求1所述的疊層OLED顯示面板,其特征在于,所述疊層OLED顯示面板還包括空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層中的一個或多個。
7.一種疊層OLED顯示面板的制造方法,其特征在于,包括:
形成像素限定層,所述像素限定層包括多條像素限定區,且所述像素限定區交叉形成多個開口;
在所述像素限定區上和所述開口中形成第一電荷產生層,所述第一電荷產生層具有第一摻雜類型;
在所述第一電荷產生層上形成一阻隔層,所述阻隔層位于所述第一電荷產生層對應所述像素限定區的部分上;
在所述阻隔層和未被所述阻隔層覆蓋的第一電荷產生層上形成第二電荷產生層,所述第二電荷產生層具有第二摻雜類型。
8.根據權利要求7所述的疊層OLED顯示面板的制造方法,其特征在于,包括:
圖案化所述像素限定區,在所述像素限定區形成凹陷結構。
9.根據權利要求7或8所述的疊層OLED顯示面板的制造方法,其特征在于,包括:
在第一電極和所述第一電荷產生層之間形成第一電致發光層;
在所述第二電荷產生層和第二電極之間形成第二電致發光層。
10.一種疊層OLED顯示裝置,其特征在于:包含如權利要求1-6任一項所述的疊層OLED顯示面板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





