[發(fā)明專(zhuān)利]陣列基板及其制作方法與液晶顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710899627.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107561804B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐洪遠(yuǎn) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/1362 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 及其 制作方法 液晶 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括基板(700),所述基板(700)上設(shè)有柵線(xiàn)(110)、數(shù)據(jù)線(xiàn)(470),所述柵線(xiàn)(110)與數(shù)據(jù)線(xiàn)(470)交叉構(gòu)成多個(gè)像素區(qū)域(800),每個(gè)所述像素區(qū)域(800)包括主像素區(qū)域(810)和次像素區(qū)域(820),所述主像素區(qū)域(810)包括第一薄膜晶體管(T1),所述次像素區(qū)域(820)包括第二薄膜晶體管(T2)和第三薄膜晶體管(T3);所述數(shù)據(jù)線(xiàn)(470)上方設(shè)置有遮光電極(610);其中:
所述第一薄膜晶體管(T1)的柵極與所述柵線(xiàn)(110)連接,源極與所述數(shù)據(jù)線(xiàn)(470)連接,漏極與所述主像素區(qū)域(810)的主像素電極(620)連接;
所述第二薄膜晶體管(T2)的柵極與所述柵線(xiàn)(110)連接,源極與所述數(shù)據(jù)線(xiàn)(470)連接,漏極與所述次像素區(qū)域(820)的次像素電極(630)連接;
所述第三薄膜晶體管(T3)的柵極與所述柵線(xiàn)(110)連接,源極與所述遮光電極(610)連接,漏極與所述次像素區(qū)域(820)的次像素電極(630)連接;
所述第三薄膜晶體管(T3)的源極與所述遮光電極(610)之間設(shè)有第二絕緣層(500),所述第二絕緣層(500)設(shè)有第一過(guò)孔(510),所述遮光電極(610)通過(guò)所述第一過(guò)孔(510)與所述第三薄膜晶體管(T3)的源極連接;
所述陣列基板還包括設(shè)于基板(700)上的第一金屬層(100)、覆蓋第一金屬層(100)的第一絕緣層(200)、設(shè)于第一絕緣層(200)上的有源層(300)、設(shè)于第一絕緣層(200)及有源層(300)上的第二金屬層(400);所述第二絕緣層(500)覆蓋有源層(300)及第二金屬層(400);所述主像素電極(620)、次像素電極(630)均設(shè)于第二絕緣層(500)上;
所述柵線(xiàn)(110)位于第一金屬層(100),所述柵線(xiàn)(110)上對(duì)應(yīng)主像素區(qū)域(810)設(shè)有第一柵極區(qū)域(111),對(duì)應(yīng)次像素區(qū)域(820)設(shè)有間隔的第二柵極區(qū)域(112)及第三柵極區(qū)域(113);
所述有源層(300)包括:分別對(duì)應(yīng)位于第一柵極區(qū)域(111)、第二柵極區(qū)域(112)、及第三柵極區(qū)域(113)上方的第一半導(dǎo)體圖案(310)、第二半導(dǎo)體圖案(320)、及第三半導(dǎo)體圖案(330);
所述數(shù)據(jù)線(xiàn)(470)位于第二金屬層(400),所述第二金屬層(400)還包括第一漏極(410)、與第一漏極(410)間隔的第一源極(420)、與第一源極(420)連接的第二源極(430)、與第二源極(430)間隔的第二漏極(440)、與第二漏極(440)連接的第三漏極(450)、與第三漏極(450)間隔的第三源極(460),所述數(shù)據(jù)線(xiàn)(470)連接第一源極(420)及第二源極(430),所述第一源極(420)、第一漏極(410)分別與第一半導(dǎo)體圖案(310)相連,所述第二源極(430)、第二漏極(440)分別與第二半導(dǎo)體圖案(320)相連,所述第三源極(460)、第三漏極(450)分別與第三半導(dǎo)體圖案(330)相連;
第一柵極區(qū)(111)、第一半導(dǎo)體圖案(310)、第一源極(420)、第一漏極(410)構(gòu)成第一薄膜晶體管(T1);第二柵極區(qū)(112)、第二半導(dǎo)體圖案(320)、第二源極(430)、第二漏極(440)構(gòu)成第二薄膜晶體管(T2);第三柵極區(qū)(113)、第三半導(dǎo)體圖案(330)、第三漏極(450)、第三源極(460)構(gòu)成第三薄膜晶體管(T3)。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述遮光電極(610)位于數(shù)據(jù)線(xiàn)(470)上方且將數(shù)據(jù)線(xiàn)(470)遮住。
3.如權(quán)利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述遮光電極(610)上的電壓與彩色濾光片基板上的公共電極的電壓相同。
4.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第二絕緣層(500)在第一漏極(410)上方設(shè)有第二過(guò)孔(520),所述主像素電極(620)經(jīng)由第二過(guò)孔(520)與第一漏極(410)接觸;所述第二絕緣層(500)在第二漏極(440)或第三漏極(450)上方設(shè)有第三過(guò)孔(530),所述次像素電極(630)經(jīng)由第三過(guò)孔(530)與第二漏極(440)及第三漏極(450)接觸。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線(xiàn)性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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