[發(fā)明專利]一種場磨電場儀

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710898474.6
• 申請日: 2017-09-28
• 公開（公告）號: CN107807285A
• 公開（公告）日: 2018-03-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬清
• 申請（專利權(quán)）人: 馬清
• 主分類號: G01R29/14
• 分類號: G01R29/14
• 代理公司: 鄭州裕晟知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙)41142
• 代理人: 王瑞

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于電力檢測設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種場磨電場儀。

背景技術(shù)

由于電暈現(xiàn)象，在高壓傳輸線附近存在大量的帶電離子，該帶電離子沿著電場線運動，形成空間離子流場，該離子流場和原電場疊加形成新的復(fù)合電場使得測量變得更加困難，測量結(jié)果發(fā)現(xiàn)，當空間存在大量帶電離子時，由帶電離子產(chǎn)生的電場可達到原電場的3~5倍，這樣的巨大干擾給空間電場的測量帶來了巨大的挑戰(zhàn)。

目前測量離子流環(huán)境下電場的主要工具為“場磨”，場磨利用特殊的金屬頂板結(jié)構(gòu)將空間離子流阻擋并實時導(dǎo)入大地，這個特殊結(jié)構(gòu)避免了離子流的干擾，并使電場的測量更加精準，因此得到了很廣泛的應(yīng)用，但是由于場磨需要實時將帶電離子導(dǎo)入大地，因此限制其只能在地面上進行測量，而空間電場的測量需要設(shè)備在真正的空間環(huán)境下測量；另外，由于其體積大、成本高，場磨不能用于檢測設(shè)備的小型化、智能化和低成本改造，這些缺點都極大地限制了場磨在未來高壓電場中的應(yīng)用。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種場磨電場儀，可以有效地阻擋外界離子流進入裝置，并實現(xiàn)離子流環(huán)境下的復(fù)合電場的精確測量。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種場磨電場儀，包括底架、頂架、第一金屬、第二金屬、第一傳感器和第二傳感器，所述底架設(shè)置于頂架下方，所述第一金屬設(shè)置于第二金屬左側(cè)，所述第一傳感器設(shè)置于第二傳感器左側(cè)，所述第一金屬包括第一底部金屬、第一上部金屬和第一頂部金屬，所述第二金屬包括第二底部金屬、第二上部金屬和第二頂部金屬，所述第一頂部金屬和第二頂部金屬設(shè)置在所述頂架，所述第一上部金屬和第二上部金屬均設(shè)置在底架上端，所述第一底部金屬和第二底部金屬設(shè)置在底架下部，所述第一傳感器和第二傳感器分別設(shè)置在第一底部金屬上側(cè)面和第二底部金屬上側(cè)面。

優(yōu)選的，所述第一頂部金屬和第二頂部金屬對稱設(shè)置在頂架兩側(cè)。

優(yōu)選的，所述第一上部金屬和第二上部金屬位于同一水平高度。

優(yōu)選的，所述第一底部金屬的位置高于第二底部金屬。

優(yōu)選的，所述底架設(shè)置左右兩部分，且設(shè)置隔離左右兩部分的隔離板。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果如下：

對于離子流環(huán)境下直流電場的測量，現(xiàn)有的技術(shù)主要是利用旋轉(zhuǎn)電場儀測試，但是，旋轉(zhuǎn)電場儀只能測量地面附近的電場，并且旋轉(zhuǎn)電場儀由于體積大，功耗高等缺點，使得其不能在高空測量空間離子流環(huán)境下的合成電場；而本發(fā)明采用了特殊的處理結(jié)構(gòu)，避免了離子流對傳感器的影響，通過雙層浮地結(jié)構(gòu)和解析方程將合成電場和新電場進行了成功的分離，從而得到了直流合成電場。

附圖說明

圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明電場示意圖。

圖中：1第一底部金屬、2第一上部金屬、3第一頂部金屬、4第二底部金屬、5第二上部金屬、6第二頂部金屬、7第一傳感器、8第二傳感器、9頂架、10底架。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例，基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。