[發明專利]一種結構經過改進的真空噴涂設備

在審

• 申請號: 201710892947.1
• 申請日: 2017-09-27
• 公開（公告）號: CN109550631A
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 吳安明
• 申請（專利權）人: 吳安明
• 主分類號: B05B16/80
• 分類號: B05B16/80;B05B16/40
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種結構經過改進的真空噴涂設備，其特征在于包括支架，所述支架分為左支架和右支架，其特征在于，所述左支架和右支架分別通過螺栓固定在地面，所述左支架和右支架之間間隔一段距離設置，所述左支架和右支架之間設置有真空罐體，所述真空罐體的左側和右側分別設置有左固定機構和右固定機構，所述左支架和右支架上分別設置有左支撐軸承和右支撐軸承，所述左支架配合左支撐軸承設置，所述右支架配合右支撐軸承設置；所述左支撐軸承和右支撐軸承分別與真空罐體之間設置有密封裝置；所述真空罐體的任意一側設置有真空噴涂設備，所述真空噴涂設備上還配合設置有測壓裝置和測溫裝置。

2.根據權利要求1所述的一種結構經過改進的真空噴涂設備，其特征在于：所述真空罐體分別包括上端、中端和下端；所述上端呈一定錐度設置，所述下端呈一定錐度設置；所述上端與下端通過中端對稱設置。

3.根據權利要求1所述的一種結構經過改進的真空噴涂設備，其特征在于： 所述上端設置有進料口，所述下端設置有出料口，所述進料口和出料口對稱設置。

4.根據權利要求1所述的一種結構經過改進的真空噴涂設備，其特征在于：所述真空罐體采用不銹鋼材料制成，所述真空罐體設置有三層。

5.根據權利要求4所述的一種結構經過改進的真空噴涂設備，其特征在于：所述真空罐體的第二層設置有冷卻水進口和冷卻水出口，所述冷卻水進口和冷卻水出口分別設置在真空罐體的兩側。