[發明專利]構造體制造裝置有效
| 申請號: | 201710890024.2 | 申請日: | 2013-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN107708318B | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發明(設計)人: | 明渡純;遠藤聰人 | 申請(專利權)人: | 國立研究開發法人產業技術綜合研究所 |
| 主分類號: | H05K3/12 | 分類號: | H05K3/12 |
| 代理公司: | 北京弘權知識產權代理事務所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 郭放;許偉群 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 構造 體制 裝置 | ||
1.一種構造體制造裝置,具備:
移動裝置,用于使基材移動;
加熱裝置,與所述基材對置地配置,用于對所述基材的構造體形成面照射光,并在所述光的照射位置形成加熱區域;
噴出裝置,在從所述加熱裝置沿所述基材的移動方向上與所述加熱裝置分離地配置,使液滴著落在所述基材的所述加熱區域,在此,所述液滴著落在溫度輪廓的、從峰值溫度變成所述基材的移動方向下游側的低溫的溫度區域;
溫度測量裝置,測量所述液滴的著落位置的所述基材的表面溫度;
控制裝置,用于對所述加熱裝置及所述移動裝置進行控制,以便形成被加熱了的所述液滴的著落位置的表面溫度朝向所述基材的移動方向變低的溫度分布,
所述液滴的著落位置的溫度分布包括帽形或雙峰形狀,所述帽形或雙峰形狀具有:朝向所述基材的移動方向上升的第一溫度區域、溫度大致恒定或朝向所述基材的移動方向稍微下降的第二溫度區域、以及以比在所述第一溫度區域溫度上升比例小的比例朝向所述基材的移動方向下降的第三溫度區域。
2.根據權利要求1所述的構造體制造裝置,其特征在于,所述控制裝置對所述移動裝置的移動速度、所述液滴的噴出周期、照射區域的加熱進行控制。
3.根據權利要求1所述的構造體制造裝置,其特征在于,變成所述基材的移動方向下游側的低溫的溫度區域的溫度梯度為1℃/mm以上且100℃/mm以下。
4.根據權利要求1所述的構造體制造裝置,其特征在于,所述移動裝置的移動速度為1mm/sec以上且100mm/sec以下。
5.根據權利要求1所述的構造體制造裝置,其特征在于,所述加熱裝置照射的所述光為紅外線、紫外線或激光。
6.根據權利要求1所述的構造體制造裝置,其特征在于,所述噴出裝置為噴墨裝置。
7.根據權利要求1所述的構造體制造裝置,其特征在于,所述液滴的著落位置的所述基材的表面溫度為50℃以上且200℃以下。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于國立研究開發法人產業技術綜合研究所,未經國立研究開發法人產業技術綜合研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710890024.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:水處理膜和用于制造其的方法
- 下一篇:一種廣告牌





