[發(fā)明專利]確定道面刻槽兩端點(diǎn)的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710877660.1 | 申請日： | 2017-09-26 |
| 公開（公告）號： | CN107726976A | 公開（公告）日： | 2018-02-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李林;羅文婷 | 申請（專利權(quán)）人： | 福建農(nóng)林大學(xué) |
| 主分類號： | G01B11/00 | 分類號： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 福州元?jiǎng)?chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司35100 | 代理人： | 蔡學(xué)俊 |
| 地址： | 350002 福*** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 確定 道面刻槽兩 端點(diǎn) 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種確定道面刻槽兩端點(diǎn)的方法，其特征在于，包括：
步驟S1：利用3D激光成像技術(shù)獲取3D道面刻槽紋理圖像；
步驟S2：提取道面刻槽原縱剖面；
步驟S3：利用原縱剖面數(shù)據(jù)的一階導(dǎo)數(shù)計(jì)算梯度值；
步驟S4：基于原縱剖面數(shù)據(jù)生成輔助縱剖線；
步驟S5：以刻槽內(nèi)最深點(diǎn)為起點(diǎn)，向前遍歷直到梯度值不大于0且高度值大于其相應(yīng)的輔助縱剖線的高度值，確定為刻槽右端點(diǎn)；向后遍歷直到梯度值不小于0且高度值大于其相應(yīng)的輔助縱剖線的高度值，確定為刻槽左端點(diǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的確定道面刻槽兩端點(diǎn)的方法，其特征在于，所述輔助縱剖線由滑動平均濾波器生成，具體是由在一定基準(zhǔn)長度內(nèi)的所有縱剖面點(diǎn)的平均值生成。
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