[發明專利]軟烤設備的排氣閥組件

有效

• 申請號: 201710877539.9
• 申請日: 2017-09-25
• 公開（公告）號: CN107676498B
• 公開（公告）日: 2019-05-07
• 發明（設計）人: 李威;曹祖強
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: F16K3/02
• 分類號: F16K3/02;F16K3/314;F16K3/316;G03F7/38
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

本發明提供了一種軟烤設備的排氣閥組件，包括排氣管、第一閥門及第一驅動，所述第一閥門在所述排氣管的橫截面上穿過所述排氣管，所述第一驅動用于驅動所述第一閥門相對所述排氣管移動，所述第一閥門包括一對擋板、主體和一對滑軌，所述一對擋板穿過所述排氣管且固定至所述排氣管，所述一對滑軌固定設置在所述主體的相對的兩側，所述一對滑軌分別與所述一對擋板滑動接觸，以通過所述第一驅動帶動所述主體和所述一對滑軌相對所述一對擋板滑動，以實現管路的開關。本發明提供的裝置可以降低閥門在伸縮過程中的摩擦力，測底解決軟烤時排氣高壓閥門報警的問題。

技術領域

本發明屬于平板顯示制造領域，具體涉及一種軟烤設備的排氣閥組件。

背景技術

光刻工藝是半導體制造中最為重要的工藝步驟之一，主要作用是將掩膜板上的圖形復制到硅片上。光刻工藝的主要工藝流程有：表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烤、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。而軟烤可以除去溶劑、增強黏附性、釋放光刻膠膜內的應力、防止光刻膠污染設備，軟烤工藝在整個光刻工藝流程中占據著重要的作用。但是在現有技術中軟烤時排氣裝置每隔一段時間就會發出高壓排氣閥門開關異常的警報。這是由于在持續制備的過程中，軟烤高壓排氣閥門頻繁地開啟與關閉，在開關過程中，閥門會與排氣管道下部的橡膠皮墊之間相對滑動產生較大摩擦，摩擦力導致閥門偏移，使得排氣閥門關閉與開啟的時間延長，最終導致排氣裝置發出警報。

發明內容

鑒于此，本發明提供了一種軟烤設備的排氣閥組件，包括排氣管、第一閥門及第一驅動，所述第一閥門在所述排氣管的橫截面上穿過所述排氣管，所述第一驅動用于驅動所述第一閥門相對所述排氣管移動，所述第一閥門包括一對擋板、主體和一對滑軌，所述一對擋板穿過所述排氣管且固定至所述排氣管，所述一對滑軌固定設置在所述主體的相對的兩側，所述一對滑軌分別與所述一對擋板滑動接觸，以通過所述第一驅動帶動所述主體和所述一對滑軌相對所述一對擋板滑動，以實現管路的開關。

其中，所述排氣閥組件還包括第二閥門、第二驅動，所述第二閥門與所述第一閥門互相平行設置，所述第二閥門在所述排氣管的橫截面上穿過所述排氣管，所述第二驅動用于驅動所述第二閥門相對所述排氣管移動，所述第二閥門還包括設置于所述主體上的孔洞，所述孔洞用于排出雜質粒子。

其中，所述擋板包括擋板側壁、基座，所述基座與所述擋板側壁相連接，所述基座靠近所述主體的一側。

其中，所述擋板還包括溝槽、固定件和滑槽，所述溝槽設置于所述擋板側壁，所述固定件與所述溝槽和所述基座相連接，所述滑槽設置于所述擋板側壁的相對的兩側，所述滑槽用于限制所述滑軌的位置并與所述滑軌滑動接觸。

其中，所述滑軌包括滑動件、一對滾動件，所述滑動件固定設置在所述主體的側面，所述一對滾動件夾設于所述基座的相對的兩側與所述滑動件之間。

其中，所述滑動件包括外滑動件、內滑動件、一對止位片，所述外滑動件與所述主體相連接，置于所述外滑動件內部的所述內滑動件，所述內滑動件和所述基座夾設有所述滾動件，所述一對止位片設置于所述外滑動件的兩側，所述一對止位片可沿著所述滑動件移動方向的垂直的方向進行移動或固定，所述止位片用于所述內滑動件進行滑動。

其中，所述外滑動件包括一對外滑動部，外滑動壁，所述一對外滑動部固定設置于所述外滑動壁的相對的兩側，所述一對外滑動部用于嵌入所述滑槽中進行滑動。

其中，所述內滑動件包括一對內滑動部，內滑動壁，所述一對內滑動部固定設置于所述內滑動壁的相對的兩側，所述一對內滑動部用于嵌入所述滑槽中進行滑動。

其中，所述內滑動壁還包括一凹槽，所述凹槽置于所述內滑動壁靠近所述主體的一側，所述凹槽的開口方向朝向于所述主體，所述凹槽用于收容所述止位片。

其中，所述滾動件包括滾珠、滾輪或齒輪。