[發(fā)明專利]一種方便使用的等離子切割噴嘴在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710875880.0 | 申請日: | 2017-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN107511574A | 公開(公告)日: | 2017-12-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 呂增智;程敏 | 申請(專利權)人: | 湖北敏豐機電設備有限公司 |
| 主分類號: | B23K10/00 | 分類號: | B23K10/00 |
| 代理公司: | 重慶創(chuàng)新專利商標代理有限公司50125 | 代理人: | 付繼德 |
| 地址: | 435000 湖北省黃石市經(jīng)濟技*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 方便 使用 等離子 切割 噴嘴 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及等離子切割設備技術領域,尤其涉及一種方便使用的等離子切割噴嘴。
背景技術
在等離子切割中,噴嘴往往為主要消耗品,而且起關鍵作用,因此在不影響質(zhì)量的前提下降低噴嘴的成本是非常重要的。現(xiàn)有技術的等離子體切割噴嘴通常為一體式結構,不方便更換噴嘴頭,在等離子切割過程中,等離子弧通過噴嘴的噴射孔作用于工件,噴射孔起到聚弧的作用,由于等離子弧外圍依然具有較高的溫度,現(xiàn)有的噴嘴頭耐高溫效果差,因此在噴嘴的前段以及噴射孔易燒損,影響噴射效率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術中存在不方便更換,耐高溫效果差等缺點,而提出的一種方便使用的等離子切割噴嘴。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用了如下技術方案:
設計一種方便使用的等離子切割噴嘴,包括噴嘴座,所述噴嘴座為錐形結構,所述噴嘴座的外側固定安裝有固定圈,所述固定圈的一側設置有第一外螺紋,所述噴嘴座的中部開設有安裝孔,所述噴嘴座遠離安裝孔的一端開設有通孔,所述通孔與安裝孔連通,所述安裝孔內(nèi)安裝有噴嘴頭,所述噴嘴頭與噴嘴座之間設置有間隙,且間隙內(nèi)安裝有密封墊,所述安裝孔內(nèi)開設有內(nèi)螺紋,所述噴嘴頭的外部開設有第二外螺紋,所述內(nèi)螺紋與第二外螺紋連接,所述噴嘴頭的一端插設在通孔內(nèi),所述噴嘴頭的中部開設有噴嘴孔,所述噴嘴孔內(nèi)噴涂有陶瓷涂層,所述噴嘴頭靠近固定圈的一端開設有內(nèi)六角螺孔。
優(yōu)選的,所述密封墊為耐高溫不銹鋼石墨纏繞墊片。
優(yōu)選的,所述噴嘴座與固定圈為一體成型結構。
本發(fā)明提出的一種方便使用的等離子切割噴嘴,有益效果在于:通過在安裝孔內(nèi)開設內(nèi)螺紋,在噴嘴頭的外部開設第二外螺紋,并將內(nèi)螺紋與第二外螺紋連接,方便取下噴嘴頭,便于更換噴嘴頭,通過在噴嘴頭的噴嘴孔內(nèi)噴涂陶瓷涂層,能夠提高提高了噴嘴頭的耐高溫性能,對噴嘴起到良好的保護作用,使其不易在高溫下變形,通過在間隙內(nèi)安裝耐高溫密封墊,能夠提高噴嘴頭與噴嘴座的密封效果,本發(fā)明結構簡單,密封效果好,方便更換噴嘴頭,耐高溫性能高,而且有效的提高了切割效果。
附圖說明
圖1為本發(fā)明提出的一種方便使用的等離子切割噴嘴的結構示意圖;
圖2為本發(fā)明提出的一種方便使用的等離子切割噴嘴的結構側視圖。
圖中:陶瓷涂層1、噴嘴孔2、噴嘴頭3、間隙4、噴嘴座5、第一外螺紋6、安裝孔7、內(nèi)六角螺孔8、固定圈9、內(nèi)螺紋10、通孔11。
具體實施方式
下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。
參照圖1-2,一種方便使用的等離子切割噴嘴,包括噴嘴座5,噴嘴座5為錐形結構,噴嘴座5的外側固定安裝有固定圈9,噴嘴座5與固定圈9為一體成型結構,能夠提高穩(wěn)定性,提高使用壽命。
固定圈9的一側設置有第一外螺紋6,噴嘴座5的中部開設有安裝孔7,噴嘴座5遠離安裝孔7的一端開設有通孔11,通孔11與安裝孔7連通,安裝孔7內(nèi)安裝有噴嘴頭3,噴嘴頭3與噴嘴座5之間設置有間隙4,且間隙4內(nèi)安裝有密封墊,密封墊為耐高溫不銹鋼石墨纏繞墊片,密封效果好,避免漏氣。
安裝孔7內(nèi)開設有內(nèi)螺紋10,噴嘴頭3的外部開設有第二外螺紋,內(nèi)螺紋10與第二外螺紋連接,方便更換噴嘴頭3,使用方便,節(jié)約使用成本。
噴嘴頭3的一端插設在通孔11內(nèi),噴嘴頭3的中部開設有噴嘴孔2,噴嘴孔2內(nèi)噴涂有陶瓷涂層1,噴嘴頭3靠近固定圈9的一端開設有內(nèi)六角螺孔8,方便拆卸噴嘴頭3,而且耐高溫效果好。
以上所述,僅為本發(fā)明較佳的具體實施方式,但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術領域的技術人員在本發(fā)明揭露的技術范圍內(nèi),根據(jù)本發(fā)明的技術方案及其發(fā)明構思加以等同替換或改變,都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
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