[發明專利]基板的制作方法、液晶面板的制作方法及液晶面板

在審

• 申請號: 201710874712.X
• 申請日: 2017-09-25
• 公開（公告）號: CN107505763A
• 公開（公告）日: 2017-12-22
• 發明（設計）人: 李繼祿
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1333;H01L21/84
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司44202
• 代理人: 郝傳鑫,熊永強

1.一種基板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

在第一玻璃上沉積感光層，層疊掩膜版于所述感光層上，曝光所述感光層，顯影所述感光層，得到涂覆有第一偏光膜層的第一基板；

在所述第一基板涂覆有所述第一偏光膜層一側制作第一功能層。

2.如權利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，還包括以下步驟：

在第二玻璃上沉積感光層，層疊掩膜版于所述感光層上，曝光所述感光層，顯影所述感光層，得到涂覆有第二偏光膜層的第二基板，其中，所述第一偏光膜層的偏光方向與所述第二偏光膜層的偏光方向互相垂直；

在所述第二基板涂覆有所述第二偏光膜層一側制作第二功能層。

3.如權利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，在所述第一基板涂覆有第一偏光膜層一側形成所述第一功能層的步驟包括：形成BM層、形成R色阻、形成G色阻、形成B色阻、形成OC平坦層、形成PS支撐層。

4.如權利要求2所述的基板的制作方法，其特征在于，在所述第二基板涂覆有第二偏光膜層一側形成所述第二功能層的步驟包括：形成遮光層、形成多晶膜層、硼離子植入、磷離子植入、形成柵極層、硼離子植入、形成絕緣層、形成漏源層、形成平坦化層、形成電容底電極、形成介電層、形成電容頂電極。

5.如權利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，在所述第一玻璃上沉積所述感光層的過程在暗箱環境中進行，其中，所述感光層的材料為鹵化銀。

6.一種液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

在第一玻璃上沉積感光層，層疊掩膜版于所述感光層上，曝光所述感光層，顯影所述感光層，得到涂覆有第一偏光膜層的第一基板，在所述第一基板涂覆有所述第一偏光膜層一側制作第一功能層；

在第二玻璃上沉積感光層，層疊掩膜版于所述感光層上，曝光所述感光層，顯影所述感光層，得到涂覆有第二偏光膜層的第二基板，其中，所述第二偏光膜層的偏光方向與所述第一偏光膜層的偏光方向互相垂直，在所述第二基板涂覆有所述第二偏光膜層一側制作第二功能層；

在所述第一功能層和所述第二功能層之間制作液晶層，得到液晶面板。

7.如權利要求6所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，形成所述第一功能層的步驟包括：形成BM層、形成R色阻、形成G色阻、形成B色阻、形成OC平坦層、形成PS支撐層。

8.如權利要求6所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，形成所述第二功能層的步驟包括：形成遮光層、形成多晶膜層、硼離子植入、磷離子植入、形成柵極層、硼離子植入、形成絕緣層、形成漏源層、形成平坦化層、形成電容底電極、形成介電層、形成電容頂電極。

9.一種液晶面板，其特征在于，包括如權利要求1至5任一所述的基板的制作方法所制作的第一基板、第一功能層、第二基板、第二功能層和液晶層，所述第一基板包括第一偏光膜層，所述第一偏光膜層設于所述第一基板一側且位于所述第一基板與所述第一功能層之間，所述液晶層設于所述第一功能層和所述第二功能層之間。

10.如權利要求9所述的液晶面板，其特征在于，所述第二基板包括第二偏光膜層，所述第二偏光膜層設于所述第二基板一側且位于所述第二基板與所述第二功能層之間，所述第一偏光膜層的偏光方向與所述第二偏光膜層的偏光方向互相垂直。