[發(fā)明專利]真空面源輻射板及具有其的面源黑體輻射源裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710874128.4 | 申請日： | 2017-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN109556725A | 公開（公告）日： | 2019-04-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 宋春暉;楊旺林;魏建強;曹清政;王志 | 申請（專利權）人： | 北京振興計量測試研究所 |
| 主分類號： | G01J5/00 | 分類號： | G01J5/00;G01J5/52;G01J5/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100074 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 源輻射 真空面 面源黑體輻射源 發(fā)射率 微錐 真空低溫條件 黑體輻射源 紫銅 間隔設置 有效輻射 口徑 輻射 應用 | ||
1.一種真空面源輻射板，其特征在于，所述真空面源輻射板的有效輻射口徑大于1000mm×1000mm，所述真空面源輻射板包括：
基體(10)，所述基體(10)包括多個微錐(11)，多個所述微錐(11)間隔設置在所述基體(10)上，所述基體(10)的材質包括紫銅；
涂層，所述涂層設置在所述基體(10)上，所述涂層用于提高所述基體(10)的發(fā)射率。
2.根據(jù)權利要求1所述的真空面源輻射板，其特征在于，每個所述微錐(11)的結構均為正四棱錐。
3.根據(jù)權利要求2所述的真空面源輻射板，其特征在于，所述正四棱錐的高度為8mm，所述正四棱錐的相對的兩個斜面間的夾角為30°。
4.根據(jù)權利要求1所述的真空面源輻射板，其特征在于，所述涂層的發(fā)射率大于0.92，TML小于0.5％，CVCM小于0.01％。
5.根據(jù)權利要求1所述的真空面源輻射板，其特征在于，所述基體(10)包括多個加熱區(qū)域，多個所述加熱區(qū)域分別獨立地進行溫度控制。
6.根據(jù)權利要求5所述的真空面源輻射板，其特征在于，所述真空面源輻射板還包括隔熱條，所述隔熱條設置在所述加熱區(qū)域的周緣。
7.根據(jù)權利要求5所述的真空面源輻射板，其特征在于，所述基體(10)包括相對設置的第一面和第二面，所述涂層設置在所述第一面上，所述真空面源輻射板還包括多個測溫部(20)，多個所述測溫部(20)設置在所述第二面上。
8.根據(jù)權利要求7所述的真空面源輻射板，其特征在于，多個所述測溫部(20)分別設置在所述加熱區(qū)域和相鄰兩個所述加熱區(qū)域之間的區(qū)域。
9.根據(jù)權利要求7所述的真空面源輻射板，其特征在于，每個所述測溫部(20)均包括測溫孔和至少一個傳感器，所述測溫孔為沉孔，至少一個所述傳感器設置在所述沉孔內。
10.一種面源黑體輻射源裝置，包括真空面源輻射板，其特征在于，所述真空面源輻射板為權利要求1至9中任一項所述的真空面源輻射板。
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