[發明專利]一種工藝槽機械臂速度的控制方法在審
| 申請號: | 201710874100.0 | 申請日: | 2017-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN107742659A | 公開(公告)日: | 2018-02-27 |
| 發明(設計)人: | 左國軍;夏傲雪 | 申請(專利權)人: | 常州捷佳創精密機械有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/67 |
| 代理公司: | 深圳市康弘知識產權代理有限公司44247 | 代理人: | 尹彥,胡朝陽 |
| 地址: | 213000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 工藝 機械 速度 控制 方法 | ||
技術領域
本發明涉及太陽能光伏行業的清洗設備和濕法處理設備,尤其涉及這些設備的關鍵工藝槽的機械臂速度的控制方法。
背景技術
在太陽能硅片的清洗設備和濕法處理設備中,尤其是在新式工藝黑硅處理設備中,在關鍵工藝槽的環節,通常都會需要利用機械臂來取放硅片籃,在取放盛裝硅片的載片盒時,很容易對液槽的液體造成一定的影響,使藥液不穩定,液面產生波動,從而對工藝造成一定的影響。
發明內容
本發明的目的是針對上述現有技術存在的缺陷,提供一種工藝槽機械臂速度的控制方法,所述機械臂在將載片盒放至工藝槽內,在載片盒下邊緣距離液面一定高度時,所述機械臂以200毫米每秒以下的速度勻速下降,使所述載片盒緩慢進入液面;
所述機械臂在將載片盒從工藝槽中取出時,所述機械臂以200毫米以下的速度勻速上升,直至所述載片盒完全脫離液面。
具體的,所述載片盒的下邊緣在距離液面一定高度之上時,所述機械臂以500毫米每秒以上的速度高速下降。
優選的,所述載片盒下邊緣距離液面一定高度時,所述機械臂均速下降速度為100-200毫米每秒。
具體的,所述載片盒完全脫離液面后,所述機械臂以500毫米每秒以上的速度高速運動,直至送至下一個工位。所述一定高度為小于或等于200毫米。
與現有技術相比,本發明所采用的這種緩慢下降和拉升的控制方法能極大的保證關鍵槽的液面穩定,不產生波動、同時在載片盒出液面后,載片盒下邊沿掛液情況也能得到良好的改善。從而保證了硅片在關鍵槽的良好工藝反應情況,遠遠優于現有的控制模式。
附圖說明
圖1示出了本發明取籃流程圖。
圖2示出了本發明放籃流程圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對發明進行詳細的說明,且所描述的實施例僅是本發明的一部分實施例,而不是全部的實施例。
如圖1、圖2所示,本發明為了保持液面穩定提出工藝槽機械臂速度的控制方法,分為放籃和取籃兩部分。
放籃時,機械臂需要將載片盒放至工藝槽內,機械臂先是高速下降,提升硅片生產過程中的加工效率,然后在載片盒下邊緣距離液面一定高度時,機械臂以200毫米每秒以下的速度勻速下降,使所述載片盒緩慢進入液面,直至載片盒放至處理位置。在本實施例中,硅片可以先以大于500毫米每秒的速度下降,然后在距離液面200毫米或者是小于200毫米的時候以100-200毫米每秒的速度緩慢進入液面,這些數據僅是本發明的一個較優實施例,本領域普通技術人員也可以根據需要適當調整機械臂的速度。
取籃時,機械臂需要將載片盒從工藝槽中取出,機械臂先以200毫米以下的速度勻速上升,直至載片盒完全脫離液面。一旦載片盒完全脫離液面后,機械臂將以500毫米每秒以上的速度高速運動,直至送至下一個工位。這些數據也僅是本發明的一個較優實施例,本領域內的普通技術人員同樣也可以根據需要調整相應的速度。
本發明通過采用多段速進行控制,能夠有效減少藥液波動,維持藥液穩定。
上述實施例僅用于說明本發明的具體實施方式。應當指出的是,對于本領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明構思的前提下,還可以做出若干變形和變化,這些變形和變化都應屬于本發明的保護范圍。
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
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H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





