[發(fā)明專利]顯示面板及其制備方法、以及顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710873294.2 | 申請日: | 2017-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN107608142A | 公開(公告)日: | 2018-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李任鵬;米田公太郎 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1339 | 分類號: | G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司44202 | 代理人: | 郝傳鑫,熊永強 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制備 方法 以及 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供第一基板和第二基板,其中,所述第一基板上形成有黑矩陣;
在所述第一基板和/或所述第二基板的邊緣涂覆封框膠,其中,對應(yīng)于所述封框膠位置處的黑矩陣為透明黑矩陣;
將所述第一基板和所述第二基板進行對組;
采用UV光從所述第一基板遠離所述封框膠的一側(cè)對所述封框膠進行照射,以使所述封框膠固化,其中,所述透明黑矩陣能夠在UV光的照射下由透明變?yōu)楹谏宜鐾该骱诰仃嚨淖兩俾市∮谒龇饪蚰z的固化速率。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述第一基板的其他區(qū)域上形成的黑矩陣也為透明黑矩陣。
3.如權(quán)利要求1或2所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述透明黑矩陣的材料包括基體材料和不可逆的光致變色材料。
4.如權(quán)利要求3所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述光致變色材料包括鹵化銀、鹵化鋅、鹵化銅、鹵化鎂、螺環(huán)吡喃、螺吩噁、嗪染料、脫氫吡啶中的一種或多種。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述第一基板的其他區(qū)域上形成的黑矩陣為黑色的黑矩陣。
6.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述顯示面板為液晶顯示面板,所述第一基板為彩膜基板,所述第二基板為薄膜場效應(yīng)晶體管基板。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,在將所述第一基板和所述第二基板進行對組之前還包括步驟:在所述第一基板與所述第二基板之間注入液晶層。
8.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述封框膠包括基體材料和添加劑材料,所述基體材料包括亞克力或者環(huán)氧系樹脂,所述添加劑材料包括光起始劑和熱硬化劑。
9.一種顯示面板,其特征在于,包括權(quán)利要求1-8任一項所述的制備方法制備的顯示面板。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1-8任一項所述的制備方法制備的顯示面板。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





