[發明專利]一種顯影裝置及顯影方法有效
| 申請號: | 201710869745.5 | 申請日: | 2017-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN107479342B | 公開(公告)日: | 2020-11-06 |
| 發明(設計)人: | 賈東坡;魏凡 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/30 | 分類號: | G03F7/30 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯影 裝置 方法 | ||
1.一種顯影裝置,用于對基板的顯影加工,其特征在于,包括:顯影槽、回收箱和設于所述顯影槽正上方且用于傳送所述基板的傳送部;所述顯影槽包括相互間隔且依次排列的第一槽、第二槽和第三槽;所述回收箱包括第一箱體和第二箱體;所述第一槽與所述第一箱體連通;所述基板處于所述第二槽內,所述第二槽與所述第一箱體連通;所述基板處于所述第三槽內,所述第三槽與所述第二箱體連通,所述第一槽用于收集未反應的顯影液,所述第二槽用于收集所述基板表面流出的顯影液,所述第三槽用于收集與所述基板表面光阻已反應的顯影液;
所述第二槽與所述第一箱體通過第一通道連接,所述第三槽與所述第二箱體通過第二通道連接,所述第一通道和所述第二通道包含有主通道,所述主通道是所述第二槽與所述第三槽的顯影液流經的公共通道;所述主通道包含有與所述主通道兩端分別連通的子通道;與所述主通道一端連通的子通道包括第一子通道及與所述第一子通道的一端連通的第二子通道;與所述主通道的另一端連通的子通道包括第三子通道及第四子通道;所述第一子通道的另一端與所述第一箱體連通;所述第二子通道的另一端與第二箱體連通;所述第三子通道的另一端與所述第二槽連通;所述第四子通道的另一端與第三槽連通。
2.如權利要求1所述的顯影裝置,其特征在于,所述第二槽與所述第一箱體通過第一通道連接,所述第一通道上設有第一閥門;在所述基板到達所述第二槽時,所述第一閥門開啟。
3.如權利要求1所述的顯影裝置,其特征在于,所述第三槽與所述第二箱體通過第二通道連接,所述第二通道上設有第二閥門;在所述基板到達第三槽時,所述第二通道的所述第二閥門開啟。
4.如權利要求1所述的顯影裝置,其特征在于,所述顯影裝置還包括:設于所述第一槽頂端的噴嘴及設于所述第三槽頂端的風刀。
5.如權利要求1所述的顯影裝置,其特征在于,所述傳送部包括多個傳送滾軸;多個所述傳送滾軸平行間隔設置構成運輸平面。
6.如權利要求2或者3所述的顯影裝置,其特征在于,所述顯影裝置還包括反射式傳感器;所述反射式傳感器包括發射裝置及控制裝置,所述發射裝置用于發射信號,所述控制裝置用于接收信號,并控制所述第一閥門與所述第二閥門的開啟及關閉。
7.如權利要求1所述的顯影裝置,其特征在于,所述第一箱體設有進水口。
8.如權利要求7所述的顯影裝置,其特征在于,所述第一箱體的內部端面設有溢流管;所述溢流管連通所述第一箱體的內部和所述第一箱體外部。
9.一種顯影方法,其特征在于,包括:
將基板置于所述運輸平面,通過反射式傳感器檢測到所述基板,并開始計時;
啟動傳送部將所述基板移動至所述第一槽上方,并通過所述噴嘴進行噴淋;
經過第一噴淋時間,所述基板移動至所述第二槽上方,所述反射式傳感器控制所述第一閥門開啟,所述第二閥門關閉,所述第二槽與所述第一箱體連通;
經過一段傳送時間,所述基板移動至第三槽上方,所述反射式傳感器控制所述第一閥門關閉,所述第二閥門開啟,所述第三槽與所述第二箱體連通,其中,所述第一槽用于收集未反應的顯影液,所述第二槽用于收集所述基板表面流出的顯影液,所述第三槽用于收集與所述基板表面光阻已反應的顯影液,其中,所述第二槽與所述第一箱體通過第一通道連接,所述第三槽與所述第二箱體通過第二通道連接,所述第一通道和所述第二通道包含有主通道,所述主通道是所述第二槽與所述第三槽的顯影液流經的公共通道;所述主通道包含有與所述主通道兩端分別連通的子通道;與所述主通道一端連通的子通道包括第一子通道及與所述第一子通道的一端連通的第二子通道;與所述主通道的另一端連通的子通道包括第三子通道及第四子通道;所述第一子通道的另一端與所述第一箱體連通;所述第二子通道的另一端與第二箱體連通;所述第三子通道的另一端與所述第二槽連通;所述第四子通道的另一端與第三槽連通。
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