[發(fā)明專利]微小衛(wèi)星隨機(jī)振動(dòng)試驗(yàn)下凹控制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710868972.6
• 申請(qǐng)日: 2017-09-22
• 公開（公告）號(hào): CN107782520B
• 公開（公告）日: 2019-08-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張華;宗益燕;李強(qiáng);韋錫峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海衛(wèi)星工程研究所
• 主分類號(hào): G01M7/02
• 分類號(hào): G01M7/02
• 代理公司: 上海漢聲知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236
• 代理人: 郭國中

1.一種微小衛(wèi)星隨機(jī)振動(dòng)試驗(yàn)下凹控制方法，其特征在于，其包括如下步驟：

步驟一：完成衛(wèi)星與振動(dòng)臺(tái)的安裝、調(diào)試，并完成試驗(yàn)測點(diǎn)確認(rèn)后，先進(jìn)行正弦掃頻試驗(yàn)，再進(jìn)行小量級(jí)的隨機(jī)振動(dòng)摸底試驗(yàn)，通過摸底試驗(yàn)確定衛(wèi)星的共振頻段及響應(yīng)放大情況；

步驟二：對(duì)于相對(duì)輸入功率譜密度放大較大的頻段，并兼顧運(yùn)載的頻率約束要求，進(jìn)行下凹處理，確定試驗(yàn)條件，估算試驗(yàn)振動(dòng)臺(tái)的位移情況，對(duì)于達(dá)到或超過試驗(yàn)臺(tái)額定位移行程90％的頻段，進(jìn)一步進(jìn)行下凹處理，保證試驗(yàn)設(shè)備安全；

步驟三：確定試驗(yàn)輸入條件后，進(jìn)行隨機(jī)振動(dòng)滿振試驗(yàn)，試驗(yàn)完成后檢查試驗(yàn)各測點(diǎn)振動(dòng)響應(yīng)曲線，并進(jìn)行衛(wèi)星狀態(tài)確認(rèn)；

步驟四：進(jìn)行正弦掃頻試驗(yàn)，試驗(yàn)條件同步驟一，并比較兩次掃頻試驗(yàn)各測點(diǎn)的響應(yīng)曲線一致性；

步驟五，轉(zhuǎn)換試驗(yàn)振動(dòng)臺(tái)或衛(wèi)星方向，重復(fù)上述步驟完成剩余方向試驗(yàn)直至試驗(yàn)結(jié)束。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微小衛(wèi)星隨機(jī)振動(dòng)試驗(yàn)下凹控制方法，其特征在于，所述步驟一包括如下步驟：

步驟十一：正弦掃頻試驗(yàn)的試驗(yàn)量級(jí)為0.1g，掃描速率為4oct/min，掃描頻率起始于5Hz并覆蓋衛(wèi)星此方向的固有頻率；

步驟十二：小量級(jí)的隨機(jī)振動(dòng)摸底試驗(yàn)的量級(jí)為：平直段功率譜密度為0.01g2/Hz，上升與下降段的斜率與滿振試驗(yàn)保持一致。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微小衛(wèi)星隨機(jī)振動(dòng)試驗(yàn)下凹控制方法，其特征在于，所述步驟二包括如下步驟：

步驟二十一：頻率下凹應(yīng)避開運(yùn)載的主要頻率，對(duì)于相對(duì)輸入功率譜密度放大50％且40Hz以上的頻段，下凹后的隨機(jī)振動(dòng)試驗(yàn)功率譜密度為其中p為下凹前的隨機(jī)振動(dòng)試驗(yàn)輸入功率譜密度，p₀為小量級(jí)隨機(jī)振動(dòng)的輸入功率譜密度，p_h為小量級(jí)隨機(jī)振動(dòng)的功率譜密度放大值；

步驟二十二：下凹的頻段寬度為：在40～100Hz頻段，共振峰處向左、向右各擴(kuò)5～10Hz；在100～600Hz，共振峰處向左、向右各擴(kuò)10～30Hz；在600～2000Hz，共振峰處向左、向右各擴(kuò)30～50Hz；

步驟二十三：試驗(yàn)振動(dòng)臺(tái)位移峰峰值的波動(dòng)達(dá)到6σ計(jì)算公式為式中X_pp為臺(tái)面工作位移的峰峰值，w₀為功率譜密度，f₀為頻率。