[發(fā)明專利]抗污膜、指紋模組、抗污膜的制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710867401.0
• 申請(qǐng)日: 2017-09-22
• 公開（公告）號(hào): CN107652739A
• 公開（公告）日: 2018-02-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡俊;謝云龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南昌歐菲生物識(shí)別技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C09D5/16
• 分類號(hào): C09D5/16;C09D133/04;C09D175/14
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11201
• 代理人: 黃德海

1.一種指紋模組的抗污膜，其特征在于，所述抗污膜包括：

底漆層；

中漆層，形成在所述底漆層上；和

面漆層，形成在所述中漆層上，所述面漆層內(nèi)含有抗指紋試劑，所述底漆層及所述面漆層均為透明結(jié)構(gòu)，所述中漆層為不透明結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗污膜，其特征在于，所述面漆層包括多個(gè)子面漆層，每個(gè)子面漆層均包含有抗指紋試劑，在沿遠(yuǎn)離所述中漆層的方向上，多個(gè)所述子面漆層中的所述抗指紋試劑含量逐漸增大。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗污膜，其特征在于，所述面漆層包括多個(gè)子面漆層，每個(gè)所述子面漆層均包含有光敏材料，在沿遠(yuǎn)離所述中漆層的方向上，多個(gè)所述子面漆層中的所述光敏材料含量逐漸減小。

4.一種指紋模組，其特征在于，所述指紋模組包括：

指紋識(shí)別傳感器；及

權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的抗污膜，所述抗污膜形成在所述指紋識(shí)別傳感器上。

5.一種抗污膜的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：

向指紋識(shí)別傳感器的表面噴涂底漆；

烘烤所述底漆以得到底漆層；

向所述底漆層上噴涂中漆；

烘烤所述中漆以得到中漆層；和

向所述中漆層上噴涂經(jīng)過超聲霧化的面漆并固化所述面漆以得到面漆層，所述面漆層內(nèi)含有抗指紋試劑。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述向指紋識(shí)別傳感器的表面噴涂底漆的步驟包括：

采用超聲波噴頭將所述底漆進(jìn)行超聲霧化并將經(jīng)過超聲霧化的所述底漆噴涂至所述指紋識(shí)別傳感器的表面。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述底漆的材料包括環(huán)氧改性樹脂，所述烘烤所述底漆的溫度為75℃-95℃，烘烤時(shí)間為10分鐘-30分鐘。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述向所述底漆層上噴涂中漆的步驟包括：

采用超聲波噴頭將所述中漆進(jìn)行超聲霧化并將經(jīng)過超聲霧化的所述中漆噴涂至所述底漆層的表面。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述中漆的材料包括丙烯酸樹脂，所述烘烤所述中漆的溫度為75℃-95℃，烘烤時(shí)間為10分鐘-30分鐘。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述面漆層包括多個(gè)子面漆層，所述向所述中漆層上噴涂經(jīng)過超聲霧化的面漆并固化所述面漆以得到所述面漆層的步驟包括：

向所述中漆層上噴涂完多個(gè)所述子面漆層后固化多個(gè)所述子面漆層得到所述面漆層；或者

向所述中漆層上噴涂一個(gè)所述子面漆層并固化該一個(gè)子面漆層，再噴涂下一個(gè)子面漆層并固化該下一個(gè)子面漆層直至形成所述面漆層。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，每個(gè)所述子面漆層均包含有抗指紋試劑，在沿遠(yuǎn)離所述中漆層的方向上，多個(gè)所述子面漆層中的所述抗指紋試劑含量逐漸增大。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，每個(gè)所述子面漆層均包含有光敏材料，在沿遠(yuǎn)離所述中漆層的方向上，多個(gè)所述子面漆層中的所述光敏材料的含量逐漸減小。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制備方法，其特征在于，所述光敏材料包括聚氨酯丙烯酸，所述抗指紋試劑的材料包括硅氟化物。