[發(fā)明專利]一種全方位等離子體浸沒離子注入裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710867127.7
• 申請(qǐng)日: 2017-09-22
• 公開（公告）號(hào): CN107706078B
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱劍豪;童麗萍;高明;傅勁裕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市中科摩方科技有限公司
• 主分類號(hào): H01J37/32
• 分類號(hào): H01J37/32
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 付奕昌

1.一種全方位等離子體浸沒離子注入裝置，其特征在于：包括離子注入腔室和設(shè)置在離子注入腔室內(nèi)的用以垂直固定待處理基片的靶臺(tái)，在所述靶臺(tái)上位于邊緣部分左右對(duì)稱分別設(shè)有夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)包括底部連接在靶臺(tái)上的固定板和與固定板活動(dòng)連接的鎖緊板，所述固定板與鎖緊板之間存在用以夾持固定待處理基片邊緣部分的夾持間隙，所述夾持機(jī)構(gòu)還包括設(shè)置在固定板和/或鎖緊板上用以調(diào)節(jié)夾持間隙距離的鎖緊構(gòu)件，在所述離子注入腔室內(nèi)位于靶臺(tái)上方設(shè)有氣體注入腔室，所述離子注入腔室與氣體注入腔室之間通過擋板分隔，所述擋板陣列分布有氣體注入通孔，各所述氣體注入通孔沿圓周方向斜向貫穿擋板，各所述氣體注入通孔的軸線方向與擋板所在平面之間具有夾角，各所述氣體注入通孔呈內(nèi)、外雙環(huán)形陣列分布，處于內(nèi)環(huán)的各所述氣體注入通孔以順時(shí)針沿圓周方向斜向貫穿擋板，處于外環(huán)的各所述氣體注入通孔以逆時(shí)針沿圓周方向斜向貫穿擋板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全方位等離子體浸沒離子注入裝置，其特征在于：所述固定板的底端向下延伸形成螺紋連接在靶臺(tái)上的螺柱。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的全方位等離子體浸沒離子注入裝置，其特征在于：在所述固定板上設(shè)有連接通孔，在所述鎖緊板上相應(yīng)設(shè)有嵌入連接通孔內(nèi)的連接插銷，所述鎖緊構(gòu)件包括固定連接在固定板并穿過鎖緊板的鎖緊螺栓和螺紋連接在鎖緊螺栓并抵頂鎖緊板的鎖緊螺母。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全方位等離子體浸沒離子注入裝置，其特征在于：所述擋板的厚度≥5mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全方位等離子體浸沒離子注入裝置，其特征在于：所述夾角的角度范圍為10°～30°。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全方位等離子體浸沒離子注入裝置，其特征在于：處于內(nèi)環(huán)的各所述氣體注入通孔與處于外環(huán)的各氣體注入通孔間隔錯(cuò)開。