[發明專利]真空低壓超淺層滲碳熱處理方法在審
| 申請號： | 201710865308.6 | 申請日： | 2017-09-22 |
| 公開（公告）號： | CN107740032A | 公開（公告）日： | 2018-02-27 |
| 發明（設計）人： | 吳小平 | 申請（專利權）人： | 成都萬可瑞特金屬科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C8/22 | 分類號： | C23C8/22;C23C8/80 |
| 代理公司： | 成都其高專利代理事務所(特殊普通合伙)51244 | 代理人： | 廖曾 |
| 地址： | 610000 四川省成都*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 低壓 超淺層 滲碳 熱處理 方法 | ||
1.真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：進行滲碳工藝環節的滲碳階段處理，其方式是通過通入滲碳性氣體-抽真空形成“滲碳-擴散”脈沖滲碳過程。
2.根據權利要求1所述的真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：所述“滲碳-擴散”脈沖式滲碳過程具體為：
1）滲碳：在真空條件下，向加熱室通入滲碳性氣體并保持，對零件進行滲碳處理；
2）擴散：經過滲碳后，對加熱室抽真空，并保持，對零件進行擴散處理；
3）循環步驟1）和步驟2）直至設定的滲碳階段時間完結。
3.根據權利要求2所述的真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：在初期的滲碳階段的滲碳保持時間大于等于擴散保持時間，在后期的滲碳階段的滲碳保持時間小于等于擴散保持時間。
4.根據權利要求1或2或3所述的真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：在所述滲碳階段之前還包括：
升溫階段：將零件放置入加熱室，抽真空并進行升溫；
均溫階段：升溫至滲碳溫度后進行30~120min的預熱均溫處理，而后進入滲碳階段。
5.根據權利要求4所述的真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：在所述升溫階段步驟中，抽真空至爐壓≤80Pa。
6.根據權利要求4所述的真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：所述滲碳溫度為800±5℃~900±5℃。
7.根據權利要求1或2或3或5或6所述的真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：經過滲碳階段后，采用真空充氮氣的方式或真空淬火油淬火的方式進行淬火處理。
8.根據權利要求7所述的真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：還包括經過淬火處理后進行回火處理的步驟。
9.根據權利要求1或2或3或5或6或8所述的真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：所述滲碳性氣體為乙炔。
10.根據權利要求2或3或5或6或8所述的真空低壓超淺層滲碳熱處理方法，其特征在于：在進行擴散時，抽真空至爐壓≤80Pa。
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