[發(fā)明專(zhuān)利]用于添加式地制造三維物體的設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710864002.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109278285B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | R·黑澤爾;J·霍赫;B·博特伊 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | CL產(chǎn)權(quán)管理有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B29C64/153 | 分類(lèi)號(hào): | B29C64/153;B29C64/268;B29C64/386;B22F3/105;C04B35/622;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/00 |
| 代理公司: | 上海華誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31300 | 代理人: | 徐穎聰 |
| 地址: | 德國(guó)利希*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 添加 制造 三維 物體 設(shè)備 | ||
1.一種用于通過(guò)依次逐層選擇性地照射和隨之依次逐層選擇性地固化建造材料層來(lái)添加式地制造三維物體(2)的設(shè)備(1),建造材料層由能借助于能量束(4)固化的建造材料(3)組成,其特征在于,該設(shè)備包括:
-照射裝置(6),該照射裝置被設(shè)置用于產(chǎn)生能量束(4)以用于依次逐層選擇性地照射和隨之依次逐層選擇性地固化由能借助于能量束(4)固化的建造材料(3)組成的建造材料層;
-被分配給或能被分配給照射裝置(6)的測(cè)量裝置(13),該測(cè)量裝置被設(shè)置用于測(cè)量由照射裝置(6)產(chǎn)生的能量束(4)的功率,其中,測(cè)量裝置(13)包括具有能量束入射面(16)的測(cè)量元件(15);
至少一個(gè)能量束擴(kuò)展裝置(17),該至少一個(gè)能量束擴(kuò)展裝置被布置或構(gòu)造成連接在能量束入射面(16)的上游,該至少一個(gè)能量束擴(kuò)展裝置被設(shè)置用于擴(kuò)展在功率方面待測(cè)量的能量束(4);以及
保持裝置(23),所述保持裝置(23)被布置在或能被布置在設(shè)備(1)的建造平面(E)中,并且包括多個(gè)規(guī)定的保持位置(24),測(cè)量裝置(13)或支承該測(cè)量裝置(13)的適配器裝置(25)能相對(duì)于設(shè)備(1)的參考點(diǎn)以規(guī)定的空間定位被保持在所述保持位置上,各個(gè)保持位置(24)通過(guò)保持裝置(23)的基體中的凹槽(28)形成,測(cè)量裝置(13)或支承測(cè)量裝置(13)的適配器裝置(25)能被固定在該凹槽中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,測(cè)量裝置(13)被布置成與在功率密度方面待測(cè)量的能量束(4)的功率無(wú)關(guān)地相對(duì)于設(shè)備(1)的至少一個(gè)參考點(diǎn)恒定地定位。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備,其特征在于,測(cè)量裝置(13)包括形成測(cè)量裝置(13)的基體的殼體結(jié)構(gòu)(21),其中,能量束入射面(16)被布置或構(gòu)造在殼體結(jié)構(gòu)(21)的外表面上或中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,能量束擴(kuò)展裝置(17)包括殼體結(jié)構(gòu)(22),該殼體結(jié)構(gòu)被布置在或能被布置在測(cè)量裝置(13)的殼體結(jié)構(gòu)(21)的如下外表面上方,在該外表面上或中布置或構(gòu)造有能量束入射面(16)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,測(cè)量裝置(13)或支承測(cè)量裝置(13)的適配器裝置(25)被支承成能以至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)自由度在至少兩個(gè)保持位置(24)之間運(yùn)動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的設(shè)備,其特征在于,保持裝置(23)的尺寸被設(shè)計(jì)為,使得該保持裝置至少部分地覆蓋設(shè)備(1)的建造平面(E)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,保持裝置(23)包括多個(gè)固定在或能固定在彼此上的保持裝置區(qū)段(23a-23c)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,設(shè)有被分配給或能被分配給照射裝置(6)的射束偏轉(zhuǎn)裝置(8),該射束偏轉(zhuǎn)裝置被設(shè)置用于將能量束(4)偏轉(zhuǎn)到被保持在確定的保持位置(24)上的測(cè)量裝置(13)上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其特征在于,射束偏轉(zhuǎn)裝置(8)被設(shè)置用于,將能量束(4)按照預(yù)先規(guī)定的或能預(yù)先規(guī)定的順序偏轉(zhuǎn)到被保持在不同的保持位置(24)上的測(cè)量裝置(13)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的設(shè)備,其特征在于,射束偏轉(zhuǎn)裝置(8)依據(jù)由控制裝置(29)產(chǎn)生的控制指令被控制或能被控制。
11.一種用于測(cè)量根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(1)的照射裝置(6)的能量束(4)的功率的方法,其特征在于,為了實(shí)施該方法,至少使用根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(1)的測(cè)量裝置(13)。
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