[發明專利]一種平面光柵尺定位誤差校準方法有效
| 申請號： | 201710861965.3 | 申請日： | 2017-09-21 |
| 公開（公告）號： | CN109541898B | 公開（公告）日： | 2020-05-01 |
| 發明（設計）人： | 吳麗麗;單世寶 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備（集團）股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 平面 光柵尺 定位 誤差 校準 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種平面光柵尺定位誤差校準方法，其特征在于，包括如下步驟：
S1：工件臺不帶旋轉傾斜姿態，采用掩模上不帶旋轉傾斜的大框標記來曝光第一層套刻標記；
S2：工件臺設定一定的旋轉傾斜姿態，采用掩模上帶有與所述工件臺旋轉傾斜姿態一致的小框標記來曝光第二層套刻標記；
S3：測量兩層套刻標記之間的套刻誤差；
S4：根據兩層套刻標記的平移誤差，擬合干涉儀模型，補償旋轉傾斜對平移誤差的影響。
2.如權利要求1所述的平面光柵尺定位誤差校準方法，其特征在于，一個大框標記對應一個小框標記，組成一組特殊標記，每組所述特殊標記中的小框標記的中心相對于所述大框標記的中心僅在Y軸方向上有偏移。
3.如權利要求2所述的平面光柵尺定位誤差校準方法，其特征在于，所述小框標記的中心相對于所述大框標記的中心在X軸方向上的偏移量為0mm，在Y軸方向上的偏移量為2.56mm。
4.如權利要求2所述的平面光柵尺定位誤差校準方法，其特征在于，每個所述掩模上設置至少7組所述特殊標記，每組所述特殊標記中，所述小框標記旋轉角度δRz分別設置為RC_Range，其中RC_Range為所述工件臺的旋轉行程。
5.如權利要求2所述的平面光柵尺定位誤差校準方法，其特征在于，各組所述特殊標記在X向的間距至少為15mm。
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