[發(fā)明專(zhuān)利]加熱裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710860334.X
• 申請(qǐng)日: 2017-09-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107872903B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 倉(cāng)野淳;田中和孝
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 日本特殊陶業(yè)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): H05B3/03
• 分類(lèi)號(hào): H05B3/03;H05B3/08;H05B3/02;H01L21/67
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

本發(fā)明提供在抑制面內(nèi)均熱性降低的同時(shí)，抑制電極端子單元和受電電極之間的接合部的損傷的加熱裝置。該加熱裝置具有在內(nèi)部具有電阻發(fā)熱體的保持體和與保持體接合的柱狀支承體。該加熱裝置還具有與電阻發(fā)熱體連接的多個(gè)受電電極和配置在形成于柱狀支承體的各貫穿孔中且與各受電電極連接的電極端子單元。各電極端子單元具有金屬絞線、一頂端部與受電電極接合另一頂端部與金屬絞線接合的第1柱狀部件和一頂端部與金屬絞線接合的第2柱狀部件。將第1柱狀部件的除各接合部以外的部分和第2柱狀部件的除接合部以外的部分合起來(lái)的柱狀部件集合體具有一般部分和大徑部分，大徑部分與貫穿孔的內(nèi)周面之間的距離比一般部分與貫穿孔的內(nèi)周面之間的距離短。

技術(shù)領(lǐng)域

本說(shuō)明書(shū)公開(kāi)的技術(shù)涉及一種加熱裝置。

背景技術(shù)

公知一種一邊保持對(duì)象物(例如，半導(dǎo)體晶圓)一邊將對(duì)象物加熱到規(guī)定的處理溫度(例如，400℃～650℃左右)的加熱裝置(也被稱(chēng)為“基座”)。加熱裝置例如作為成膜裝置(CVD成膜裝置、濺射成膜裝置等)、蝕刻裝置(等離子體蝕刻裝置等)這樣的半導(dǎo)體制造裝置的一部分來(lái)使用。

通常，加熱裝置具有：板狀的保持體，其具有與規(guī)定的方向(以下稱(chēng)為“第1方向”)大致正交的保持面和背面；以及柱狀支承體，其呈在第1方向上延伸的柱狀，且與保持體的背面接合在一起(例如，參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。在保持體的內(nèi)部配置有電阻發(fā)熱體，在保持體的背面?zhèn)扰渲糜信c電阻發(fā)熱體電連接的多個(gè)受電電極(電極焊盤(pán))。此外，在柱狀支承體上形成有在保持體的背面?zhèn)乳_(kāi)口的多個(gè)貫穿孔，各貫穿孔收納有例如通過(guò)釬焊與各受電電極接合在一起的電極端子。當(dāng)借助電極端子和受電電極對(duì)電阻發(fā)熱體施加電壓時(shí)，電阻發(fā)熱體發(fā)熱，并且將保持于保持體的保持面上的對(duì)象物(例如，半導(dǎo)體晶圓)例如加熱到400℃～650℃左右。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：(日本)特許第4485681號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問(wèn)題

近年來(lái)，為了實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體制造工藝中的圖案細(xì)微化、提高成品率等，提高對(duì)于提高加熱裝置的保持面內(nèi)的溫度的均勻性(面內(nèi)均熱性)的要求。通常，由保持體的內(nèi)部的電阻發(fā)熱體產(chǎn)生的熱經(jīng)由各部件(例如，電極端子)而散失(以下，將該現(xiàn)象稱(chēng)為“熱散失”)，因此，為了提高面內(nèi)均熱性，優(yōu)選盡量減小電極端子的直徑。另一方面，當(dāng)減小電極端子的直徑時(shí)，電極端子和受電電極之間的接合部(釬焊部)也變小，該接合部有可能因由于比較長(zhǎng)的電極端子進(jìn)行搖動(dòng)而在該接合部產(chǎn)生的應(yīng)力(力矩)而受到損傷。這樣一來(lái)，對(duì)于以往的加熱裝置而言，在兼顧提高保持面內(nèi)的均熱性和抑制電極端子與受電電極之間的接合部的破損這一點(diǎn)上存在提高的余地。

在本說(shuō)明書(shū)中，公開(kāi)可解決上述課題的技術(shù)。

用于解決問(wèn)題的方案

本說(shuō)明書(shū)公開(kāi)的技術(shù)例如可作為以下形式來(lái)實(shí)現(xiàn)。