[發(fā)明專利]CQ?1瓷珠消氫性能試驗操作工藝及其使用裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710856984.7
• 申請日: 2017-09-21
• 公開（公告）號: CN107421765A
• 公開（公告）日: 2017-12-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉虎;余詩明
• 申請（專利權(quán)）人: 南京分析儀器廠有限公司
• 主分類號: G01M99/00
• 分類號: G01M99/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝，其特征在于，包括以下步驟：

（1）對RD-1400氫分析器進行校準操作，用標氣校準氫氣分析器的零點和滿度，將被試鈀盤裝到試驗罐內(nèi)的CQ-1儀器上，接通氣路，通電通氣，使其處于預熱狀態(tài)，約1.5小時后儀器才算進入正常工作狀態(tài)；

（2）消氫性能試驗，所述消氫性能試驗包括：高氫動態(tài)消氫、低氫動態(tài)消氫和靜態(tài)消氫；

（3）試驗數(shù)據(jù)處理與鈀盤消氫性能的判定。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝，其特征在于：所述高氫動態(tài)消氫是在試驗罐內(nèi)CQ-1消氫器的加熱器未通電加熱、但電風扇處于運行狀態(tài)下進行，采用通過氣體流量控制裝置對試驗罐內(nèi)通入氫氣，開始階段通氫氣流量約為400L／h，與此同時用氫氣分析器11測定試驗罐內(nèi)氫氣濃度值，當氫氣濃度接近3．5％氫氣時，將流量降到26O～320L／h范圍內(nèi)某一值，使H2濃度值緩慢升至4．0土0．1％氫氣并使其穩(wěn)定約15分鐘后，如果此刻H2分析器指示值已穩(wěn)定，記錄此時氣體流量控制裝置中流量計指示值，此值即為本試驗鈀盤的高氫消氫能力。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝，其特征在于：所述低氫動態(tài)消氫包括通過氣體流量控制裝置對試驗罐內(nèi)通入氫氣，通氫氣流量為140～180L／h范圍內(nèi)某一值，與此同時用氫氣分析器測定試驗罐內(nèi)氫氣濃度，在氫氣濃度值降到2．5土0．1％氫氣后使其穩(wěn)定約15分鐘，如果此時儀器指示值已穩(wěn)定，記錄此刻氣體流量控制裝置中流量計的指示值，此值即為本試驗鈀盤的低氫動態(tài)消氫量。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝，其特征在于：所述靜態(tài)消氫包括在試驗罐內(nèi)氫氣濃度值持續(xù)（約15分鐘）為4土O．1％氫氣狀態(tài)下停止對試驗罐通入（補充）氫氣，測定試驗罐內(nèi)氫氣濃度由4土0．1％氫氣降到1．5土0．1％氫氣所經(jīng)歷的時間。

5.CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝的使用裝置，其特征在于：包括消氫器試驗罐，所述消氫器試驗罐的頂部開有進氣嘴，側(cè)面開有返回氣嘴，底部開有出氣嘴，所述進氣嘴通過進氣管路與標氣供給裝置連接，進氣嘴與標氣供給裝置之間還連接有隔爆連接器；出氣嘴通過出氣管路與氫氣分析器連接，氫氣分析器通過返回管路與返回氣嘴連接，

所述出氣管路與氫氣分析器之間還依次連接有第一球閥、抽氣泵、穩(wěn)壓器、干燥器；氫氣分析器與返回氣嘴之間還連接有流量計二，流量計二與返回氣嘴之間連接有隔爆連接器二。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝的使用裝置，其特征在于：所述抽氣泵與穩(wěn)壓器之間還安裝有針型閥。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝的使用裝置，其特征在于：所述穩(wěn)壓器選用水封穩(wěn)壓器。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝的使用裝置，其特征在于：所述標氣供給裝置包括安裝在進氣管道上的流量計一、減壓穩(wěn)壓閥和第二球閥，第二球閥通過進氣管分別與氫氣鋼瓶和壓縮空氣鋼瓶連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求5或8所述的一種CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝的使用裝置，其特征在于：所述第一球閥和第二球閥為二位一通球閥。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種CQ-1瓷珠消氫性能試驗操作工藝的使用裝置，其特征在于：所述第一球閥通過管路與大氣相通。