[發(fā)明專利]一種UV清洗方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710856513.6
• 申請日: 2017-09-21
• 公開（公告）號: CN109530344A
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 丁川
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇華夏知識產(chǎn)權(quán)服務(wù)有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明涉及一種LCD清洗方法，特別是一種UV清洗方法，特征在于包括以下步驟：1提供UV清洗裝置；2 設(shè)置UV清洗裝置參數(shù)；3 將ITO基板置UV傳輸臺上，基板治濕性向上；4 UV紫外線單元內(nèi)部有傳輸機構(gòu)，基板在此裝置輸送；5 內(nèi)部上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射；6 紫外清洗結(jié)束后輸出基板。本發(fā)明在LCD生產(chǎn)過程中經(jīng)過光清洗后的物體表面清潔度更高，浸潤性更好，粘合力更強，可使臟點、黑點、白點、針孔、起皮等影響涂敷的質(zhì)量問題大大減少，膜層更加牢固。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種LCD清洗方法，特別是一種UV清洗方法。

背景技術(shù)

在液晶顯示器制造過程中，液晶分子之所以能夠在屏內(nèi)有規(guī)則并按一定的方向進行排列取決于液晶顯示器制造工藝中取向技術(shù)的應(yīng)用，為實現(xiàn)這一點，必須在基片的表面上設(shè)置有特定的取向涂覆膜或者摩擦出溝槽，以作為約束液晶分子取向排列的手段。這一工藝稱為取向排列，一般的工藝流程為清洗—涂膜—預(yù)烘—固化—摩擦。其中清洗是在 PI涂布之前對 ITO 玻璃進行清洗，利用物理的、化學(xué)的方法將吸附在玻璃表面的污漬、雜質(zhì)、灰塵等臟東西溶解脫離，然后干燥、活化，提高 ITO 玻璃的涂覆性，為涂布出良好的取向膜做好準備。如果涂布之前清洗效果不好或者殘留有雜質(zhì)的話，在 PI 印刷處就會有不良品出現(xiàn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種紫外光清洗方法，該方法能夠利用紫外光清洗使ＩＴＯ玻璃表面沒有殘存的碳氫化合物，達到原子清潔度。紫外光清洗還能通過紫外光照射使水中細菌不能存活繁殖，達到殺菌的作用。

本發(fā)明提出的一種紫外光UV清洗方法，包括以下步驟：1、提供UV清洗裝置；2、設(shè)置UV清洗裝置參數(shù)；3、將ITO基板置于UV裝置臺上，基板治濕性向上；4、UV紫外線單元內(nèi)部有傳輸機構(gòu)，基板在此裝置輸送；5、裝置上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射，進行清洗；6、紫外清洗結(jié)束后輸出基板。

本發(fā)明提出的一種紫外光UV清洗方法，在步驟1中UV清洗裝置為密封裝置。

本發(fā)明提出的一種紫外光UV清洗方法，在步驟4中紫外線單元內(nèi)部有傳輸機構(gòu)，玻璃基板是以滾輪方式輸送。

本發(fā)明提出的一種紫外光UV清洗方法，在步驟5中裝置上方裝置低壓水銀燈低壓汞燈產(chǎn)生紫外線照射時配套設(shè)置反射板，所述反射板將UV燈發(fā)出的UV光反射到玻璃基板上。

本發(fā)明的工作原理是：UV清洗是利用裝在石英玻璃管中的低壓汞燈，在工作時發(fā)出的短紫外光進行清洗，紫外光具有較高的能量，而且波長越短的紫外光能量越高。UV低壓紫外汞燈能同時發(fā)射波長254nm和185nm的紫外光，這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應(yīng)過程是連續(xù)進行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物（即碳氫化合物）分子發(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機污染物。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比其顯著優(yōu)點：

1、UV光清洗能夠達到常規(guī)的清洗方法難以達到的高清潔度，而且不存在三廢處理問題，有利于環(huán)境保護。

2、UV光清洗是在常溫、常壓的環(huán)境中進行的，是一種非接觸式的干法清洗技術(shù)。光清洗時被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，不會像溶液清洗時發(fā)生二次污染。

3、 一般情況下，UV光清洗的表面不會受到損傷，由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。