[發明專利]適用于GPP二極管制造的負性光刻膠有效
| 申請號： | 201710855085.5 | 申請日： | 2017-09-20 |
| 公開（公告）號： | CN107561862B | 公開（公告）日： | 2020-08-07 |
| 發明（設計）人： | 馬驥;卞玉桂 | 申請（專利權）人： | 蘇州瑞紅電子化學品有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/038 | 分類號： | G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 楊林潔 |
| 地址： | 215124 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 適用于 gpp 二極管 制造 光刻 | ||
1.一種適用于GPP二極管制造的負性光刻膠，其特征在于，所述負性光刻膠的質量組成為：
環化聚異戊二烯，5～45％；
溶劑，30～85％；
光敏劑，5～25％，所述光敏劑為2，6-二[(4-疊氮基苯基)亞甲基]-4-甲基-環己酮；
流平劑，20～500ppm，所述流平劑為聚醚改性聚二甲基硅氧烷共聚體；
耦合劑，50～1000ppm，所述耦合劑為乙烷氧基鋁二異丙基。
2.根據權利要求1所述的負性光刻膠，其特征在于：所述環化聚異戊二烯的分子量為10萬～14萬，分子量分布為1.0～1.03，環化率為62～65％。
3.根據權利要求1所述的負性光刻膠，其特征在于：所述溶劑為二甲苯與乙苯的混合溶劑，其中乙苯含量為20～45％，間二甲苯含量不低于40％。
4.根據權利要求1所述的負性光刻膠，其特征在于：所述流平劑的分子量為1000～2500。
5.根據權利要求1所述的負性光刻膠，其特征在于：所述溶劑的質量濃度范圍設置為64.5～74.5％。
6.根據權利要求1所述的負性光刻膠，其特征在于：所述環化聚異戊二烯的質量濃度范圍為18～30％。
7.根據權利要求1所述的負性光刻膠，其特征在于：所述流平劑的質量濃度范圍為100～200ppm。
8.根據權利要求1所述的負性光刻膠，其特征在于：所述耦合劑的質量濃度范圍為150～300ppm。
9.根據權利要求1至8任一項所述的負性光刻膠，其特征在于，所述負性光刻膠的質量組成為：
環化聚異戊二烯，18～30％；
溶劑，64.5～74.5％；
光敏劑，5～10％；
流平劑，100～200ppm；
耦合劑，150～300ppm。
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