[發明專利]一種光學生物晶片制備方法在審
| 申請號： | 201710852768.5 | 申請日： | 2017-09-20 |
| 公開（公告）號： | CN108169181A | 公開（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發明（設計）人： | 鄭蘭花;李建霖;劉仁源;洪禮清;程四興;庾瓊;蔣奎勝;焦政 | 申請（專利權）人： | 東莞東陽光科研發有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/552 | 分類號： | G01N21/552 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 523871 廣東省東莞*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 納米粒子 基板表面 制備 光學生物 金屬薄膜 生物晶片 晶片 金屬納米粒子 生物傳感器 測試單元 基板單元 激光輻照 檢測靈敏 均勻性 重現性 基板 熔融 沉積 | ||
1.一種制備如權利要求1所述光學生物晶片的方法，其特征在于，包括：
a)鍍膜：提供一基板，在所述基板上沉積金屬薄膜層；
b)熱處理：將所述基板進行激光輻照處理，使所述金屬薄膜層熔融為金屬納米粒子，成為納米粒子單元；
c)修飾：在所述基板表面修飾檢測粒子成為測試單元。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在所述步驟a)中，所述沉積金屬薄膜層的方法是磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發中的任一種或幾種。
3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述沉積金屬薄膜層為先沉積一層鉻，再沉積一層金、銀或金銀合金。
4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在所述步驟b)中，將所述基板進行激光輻照處理前，還包括步驟：
預熱：對基板在預熱溫度下進行預熱，所述預熱溫度為50℃-300℃，預熱時間為30s-150s。
5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在所述步驟b)中，所述激光輻照的波長為10600nm、1064nm、248nm、193nm中的任一種，所述激光采用的光斑形狀為圓形或線型；所述激光的圓形光斑直徑0.2mm～5mm，所述線型光斑寬度為0.03mm～5mm。
6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，在所述步驟b)中，所述激光輻照的激光器為CO2激光器、光纖激光器、Nd：YAG激光器、準分子激光器中的任一種，所述激光輻照的運行模式為連續模式或脈沖模式，所述準分子激光器為KrF準分子激光器或ArF準分子激光器。
7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述激光移動的速度相對于基板為500mm/s～4000mm/s，激光運動軌跡為直線，所述激光與基板兩者之間角度為任意角度，所述激光與基板兩者之間角度為45°、60°、90°中的任一種。
8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在所述步驟c)中，在所述基板表面修飾前，還包括步驟：
表面處理：將所述金屬納米粒子進行表面處理，成為納米粒子單元。
9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述表面處理是將基板置于等離子設備中，通入惰性保護氣氛，加氣壓，加射頻電壓，進行表面處理。
10.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述表面處理惰性保護氣氛為氮氣、氬氣或其組合，所述氣壓為50Pa～150Pa；所述射頻電壓為5W～15W；所述表面處理的時間為2min～10min。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東莞東陽光科研發有限公司，未經東莞東陽光科研發有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710852768.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
