[發(fā)明專利]一種離子束刻蝕設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710846379.1
• 申請日: 2017-09-19
• 公開（公告）號: CN109524285B
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡凡;彭立波;佘鵬程;龔俊;陳特超;程文進;范江華
• 申請（專利權(quán)）人: 中國電子科技集團公司第四十八研究所
• 主分類號: H01J37/20
• 分類號: H01J37/20;H01J37/317
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務(wù)所(普通合伙) 43008
• 代理人: 周長清;徐好

1.一種離子束刻蝕設(shè)備，包括真空腔室(1)，所述真空腔室(1)內(nèi)設(shè)有離子源(2)和工件臺(3)，其特征在于：所述真空腔室(1)內(nèi)還設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸(4)，所述旋轉(zhuǎn)軸(4)和所述工件臺(3)均豎直布置，所述離子源(2)和所述工件臺(3)相對布置，旋轉(zhuǎn)軸(4)上安裝有驅(qū)動工件臺(3)沿與離子源(2)的離子束(6)垂直的方向水平往復(fù)運動的掃描機構(gòu)(5)，所述離子束(6)入射至所述掃描機構(gòu)(5)的位置與所述旋轉(zhuǎn)軸(4)的軸心線重合，所述掃描機構(gòu)(5)包括支板(51)、以及設(shè)于支板(51)上的驅(qū)動組件(52)和導(dǎo)向組件(53)，所述支板(51)與所述旋轉(zhuǎn)軸(4)固定連接，所述工件臺(3)設(shè)于所述支板(51)靠近所述離子源(2)一側(cè)，所述驅(qū)動組件(52)與所述旋轉(zhuǎn)軸(4)上下相對布置，所述驅(qū)動組件(52)和所述導(dǎo)向組件(53)均與所述工件臺(3)相連，所述導(dǎo)向組件(53)包括一對限位導(dǎo)軌(531)，一對所述限位導(dǎo)軌(531)分布于所述工件臺(3)上下兩側(cè)，所述工件臺(3)上設(shè)有兩組滾輪，兩組所述滾輪一一對應(yīng)地布置于所述限位導(dǎo)軌(531)內(nèi)，所述驅(qū)動組件(52)包括驅(qū)動電機(521)、磁流體密封軸(522)、主動鏈輪(523)、從動鏈輪(524)及傳動鏈條(525)，所述驅(qū)動電機(521)設(shè)于所述真空腔室(1)外并通過所述磁流體密封軸(522)與所述主動鏈輪(523)連接，所述從動鏈輪(524)為兩個并安裝于所述支板(51)上，兩個從動鏈輪(524)布置于主動鏈輪(523)的兩側(cè)，所述傳動鏈條(525)繞設(shè)于所述主動鏈輪(523)和所述從動鏈輪(524)上，所述工件臺 (3)與所述傳動鏈條(525)相連，所述旋轉(zhuǎn)軸(4)的軸心線與所述磁流體密封軸(522)的軸心線重合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子束刻蝕設(shè)備，其特征在于：所述工件臺(3)為水冷結(jié)構(gòu)。