[發明專利]熔接機光纖端面成像機構

在審

• 申請號: 201710836068.7
• 申請日: 2017-09-16
• 公開（公告）號: CN107390323A
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發明（設計）人: 李博;董輝
• 申請（專利權）人: 蚌埠道生精密光電科技有限公司
• 主分類號: G02B6/255
• 分類號: G02B6/255
• 代理公司: 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司34102
• 代理人: 王琪

技術領域

本發明涉及一種成像機構，特別涉及一種用于熔接機光纖端面成像的成像機構。

背景技術

熔接機熔接過程需要圖像支持，而圖像是光照到光纖上通過物鏡成像到COMS上。光纖熔接機成像技術是通過LED燈照射到光纖上，光路透過光纖傳播到CCD上，但是現有的光纖熔接機在CCD上只能看到一個光纖端面的圖像，沒有辦法在同一個CCD看到不同光纖端面的圖像，如果需要看到兩個光纖的端面則需要兩個物鏡和CCD座，在光纖熔接機。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種增加光路傳播的范圍、提高對光纖的適應范圍的熔接機光纖端面成像機構。

為解決上述技術問題，本發明提供了一種熔接機光纖端面成像機構，至少包括物鏡和CCD，光纖的端面通過物鏡成像到CCD上；

所述的熔接機光纖端面成像機構還包括棱鏡，棱鏡具有至少一個反射面，光從光纖端面射出經過棱鏡的反射面射向物鏡。

采用這樣的結構后，利用棱鏡將一根以上的光纖端面時成像在一個一套物鏡和CCD上，方便觀察同時觀察光纖端面，對光纖調芯起關鍵作用。

本發明的有益技術效果為：豐富熔接機光路傳播種類，增加光路傳播的范圍，提高對光纖的適應范圍。

為了更清楚的理解本發明的技術內容，以下將本熔接機光纖端面成像機構簡稱為本成像機構。

本成像機構還包括調節組件，調節組件包括絲桿推進電機、絲桿套、限位座和棱鏡座，絲桿套與絲桿推進電機的輸出軸之間螺紋配合，棱鏡固定在棱鏡座上，限位座設有供棱鏡座往復移動的滑槽，滑槽的走向與絲桿推進電機的輸出軸軸向方向一致，棱鏡座與絲桿套之間固定。

采用這樣的結構后，可以通過調節組件調節棱鏡的位置，通過棱鏡移動，可將圖像成在合適的位置。

本成像機構還包括底座，調節組件的限位座通過若干支撐桿固定在底座上；采用這樣的結構后，底座可以方便固定限位座，使限位座相對棱鏡座的位置固定。

本成像機構的棱鏡具有兩個反射面，兩個反射面分別對應兩根光纖的端面，光從光纖端面射出經過棱鏡的反射面射向物鏡；采用這樣的結構后，兩個光纖同時成像在一個CCD上，方便觀察光纖端面，對光纖調芯起關鍵作用。

附圖說明

圖1是本成像機構實施例的結構示意圖。

圖2是圖1沿A-A向剖視圖。

圖3是圖1的立體圖。

圖4是本成像機構實施例的光路原理圖。

具體實施方式

如圖1至4所示(為了視圖的簡潔，圖2中省略了物鏡4和CCD5)

本成像機構包括物鏡4、CCD5、棱鏡2、底座1和調節組件。

底座1設置在光纖熔接機內部，本成像機構通過底座1固定在光纖熔接機內。

棱鏡2大體為三棱柱狀，棱鏡2三個側壁中有兩個為反射面21，光可以從光纖6端面射出經過棱鏡2的反射面21射向物鏡4。

棱鏡2通過調節組件安裝在底座1上，調節組件包括絲桿推進電機31、絲桿套32、限位座35和棱鏡座34，絲桿推進電機31貫穿底座1，絲桿推進電機31的輸出軸31a向底座1上側伸出，絲桿推進電機31的輸出軸31a為螺桿狀，絲桿套32與絲桿推進電機31的輸出軸31a之間螺紋配合，絲桿套32上端面固定焊接有推進桿33，推進桿33的上端與棱鏡座34焊接固定，推進桿33的軸向方向與絲桿推進電機31的輸出軸31a一致，棱鏡2傾斜一定角度且固定粘合在棱鏡座34上；

限位座35通過兩根支撐桿36固定在底座1上，限位座35設有供棱鏡座34往復移動的滑槽35a，滑槽35a的走向與絲桿推進電機31的輸出軸31a軸向方向一致，棱鏡座34上端伸出限位座35上側，限位座35限制棱鏡座34在滑槽35a方向往復運動時，不會發生周向的轉動。

物鏡4和CCD5放置在棱鏡2的旁側，物鏡4對準光纖6的端面，光纖6的端面通過物鏡4成像到CCD5上。

使用時，兩根光纖6的端面分別處于棱鏡2兩側，每根光纖6的端面對應對準棱鏡2的一個反射面21，使LED燈7發光照射到光纖6上，光穿過光纖6傳播到棱鏡2上，通過棱鏡2反射到物鏡4內，左右光纖6對稱成像到CCD5上。

當棱鏡2的位置需要調整時，驅動絲桿推進電機31，由于限位座35的限制，絲桿套32帶動推動桿及棱鏡座34上、下移動，進而推動棱鏡2上下移動，這樣就可以調節光路的入射角，從而使合適的光路反射到物鏡4內，成出想要的圖像。

以上所述的僅是本發明的一種實施方式，應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明原理的前提下，還可以作出若干變型和改進，這些也應視為屬于本發明的保護范圍。