[發明專利]拾取-移除系統以及發光顯示器的修復方法有效
| 申請號: | 201710833981.1 | 申請日: | 2017-09-15 |
| 公開(公告)號: | CN107833526B | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發明(設計)人: | 佐佐木健司;保羅·約翰·舒勒;葛特鄂孟;李宗霑 | 申請(專利權)人: | 伊樂視有限公司 |
| 主分類號: | G09F9/33 | 分類號: | G09F9/33 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飛亞;薛曉偉 |
| 地址: | 美國華盛頓州(郵編986*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 拾取 系統 以及 發光 顯示器 修復 方法 | ||
1.一種用于修復發光顯示器的拾取-移除方法,所述方法包括:
提供含有放置的發光元件的陣列的發光基板,所述發光基板含有陣列井;發光元件的陣列可分離地設置于所述陣列井中且與所述發光基板電絕緣;相鄰的兩個發光元件是獨立的且處于非連接狀態;
使用檢測子系統檢測所述發光基板以確定缺陷陣列位點;檢測子系統包括:用于以紫外(UV)光譜照射所述發光基板并光激發所述發光元件的照明器;以及雙模式圖像傳感器用于在第一種模式中進行視覺對比和邊緣檢測,以及在第二種模式中進行波長特定過濾以判斷所述發光元件的陣列中的發光元件是否存在外觀、定位及定向方面的缺陷;所述照明器獨立于且覆蓋所述發光基板;其中使用檢測子系統檢測所述發光基板以確定缺陷陣列位點包括:使用紫外光(UV)照射所述發光基板;光激發所述發光元件的陣列;以及測量發光元件的陣列在預定波長的亮度以確定缺陷陣列位點;以及
響應于所述檢測,使用拾取-移除系統從缺陷陣列位點去除缺陷項目。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,檢測所述發光基板以確定缺陷陣列位點包括確定缺陷項目,所述缺陷項目選自由缺失發光元件、未對準的發光元件、錯位的發光元件、無效的發光元件、以及碎片組成的組。
3.如權利要求2所述的方法,其特征在于,使用所述拾取移除系統包括使用所述拾取移除系統從所述發光基板的頂表面移除未對準的發光元件、錯位的發光元件、無效的發光元件、以及碎片。
4.如權利要求1所述的方法,其特征在于,使用所述拾取-移除系統包括使用一個相變維持機制。
5.如權利要求4所述的方法,其特征在于,使用所述相變維持機制包括:
使用液態聚合物涂覆拾取-移除轉移頭;
在缺陷項目與所述轉移頭接觸之后,使轉移頭冷卻;
使所述聚合物變為固態附著于所述缺陷項目。
6.如權利要求5所述的方法,其特征在于,涂覆所述拾取-移除轉移頭包括在多個拾取-移除轉移頭中涂覆一個拾取-移除轉移頭;以及
所述方法還包括:
在附著所述缺陷項目之后,丟棄所述轉移頭。
7.如權利要求5所述的方法,其特征在于,還包括:
在附著所述缺陷項目之后,清洗所述轉移頭以去除所述缺陷發光元件;以及
使用液態聚合物重新涂覆所述轉移頭。
8.如權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括:
在移除缺陷項目之后,使用選自流體組裝或重新利用的拾取-移除系統以使用替換發光元件來填充空的陣列井。
9.如權利要求8所述的方法,其特征在于,還包括:
在使用替換發光元件填充空的井之后,重新檢測發光基板以確定缺陷的陣列位點;
在通過重新檢測之后,退火處理所述發光基板;以及
響應于所述退火處理,使所述發光元件電連接所述發光基板。
10.如權利要求1所述的方法,其特征在于,提供所述發光基板包括提供發光二極管(LED)發光元件。
11.如權利要求1所述的方法,其特征在于,使用拾取-移除系統移除缺陷項目時使用如下靜電式維持機制:
在拾取-移除轉移頭與缺陷項目之間產生靜電電荷;
通過靜電電荷吸引所述缺陷項目至轉移頭;以及
消除靜電電荷以從轉移頭上釋放缺陷項目發光元件。
12.如權利要求1所述的方法,其特征在于,使用拾取-移除系統移除缺陷項目包括使用如下粘合式維持機制:
提供具有拾取-移除可變形接觸表面區域的轉移頭,其相對于缺陷發光元件具有粘性;
擴大所述轉移頭可形變接觸表面區域以接觸所述缺陷項目;以及,
響應于所述接觸,使所述缺陷項目附著于所述轉移頭。
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