[發明專利]XRD樣品臺

有效

• 申請號: 201710831413.8
• 申請日: 2017-09-15
• 公開（公告）號: CN107643306B
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發明（設計）人: 孫楊;袁震
• 申請（專利權）人: 中國科學院化學研究所
• 主分類號: G01N23/20008
• 分類號: G01N23/20008
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 李健;王亞男

本發明涉及XRD檢測領域，公開了一種XRD樣品臺，所述XRD樣品臺包括用于承載待測樣品(17)的支撐臺(10)以及與所述支撐臺(10)密封連接且罩在所述待測樣品(17)的外部的密封罩(11)，其中，所述密封罩(11)上開設有第一開口和第二開口，所述第一開口上密封地覆蓋有供用于照射所述待測樣品(17)的X射線射入的第一透明膜(12)，所述第二開口上密封地覆蓋有供所述X射線照射所述待測樣品(17)后產生的特征X射線射出的第二透明膜(13)。該XRD樣品臺能夠減少進行XRD檢測的待測樣品暴露于空氣中的時間，提高了檢測結果的準確性。

技術領域

本發明涉及XRD檢測領域，具體地涉及一種XRD樣品臺。

背景技術

X-ray diffraction(簡稱XRD)即X射線衍射，通過對材料進行X射線衍射，分析其衍射圖譜，獲得材料的成分、材料內部原子或分子的結構或形態等信息的研究手段。X射線是一種波長很短(約為20～0.06埃)的電磁波，能穿透一定厚度的物質，并能使熒光物質發光、照相乳膠感光、氣體電離。在用電子束轟擊金屬“靶”產生的X射線中，包含與靶中各種元素對應的具有特定波長的X射線，稱為特征(或標識)X射線。

XRD是對固體材料進行最有力、最快捷的分析方法之一，它可對單晶、多晶和非晶樣品進行結構參數分析，例如物相定性定量分析、衍射譜的指標化、點陣參數測定、粉末衍射圖譜擬合修正晶體結構、殘余應力測定、織構分析、結晶度測定、薄膜的厚度和密度分析、表面和界面粗糙度及層序分析以及高分辨衍射測定單晶外延膜結構特征等。以多晶X射線衍射為例，多晶X射線衍射是指用X射線衍射法研究多晶樣品的成分和結構的一種實驗方法，也稱粉末法，其中，多晶是指由無數微細晶粒組成的細粉狀樣品或塊狀樣品。多晶X射線衍射技術因其無損樣品、無污染、快速、精度高等優點不僅被用于化學、物理、材料、地質、生物等基礎學科，在諸如能源、環保、公安司法、紡織、礦產、陶瓷、醫藥、食品等工業領域也被廣泛地作為檢測手段加以應用。

在常規XRD的測試分析中，由于待測試的樣品被放置于呈敞開式平臺的樣品臺，因此整個測試過程中，待測試樣品基本上都裸露在空氣中，這樣，易于出現干擾峰，對于待測樣品尤其是對于空氣較為敏感的待測樣品的特征峰干擾較大，使得檢測結果誤差較大。

發明內容

本發明的目的是為了克服現有技術存在的進行XRD檢測的待測樣品基本都裸露于空氣中從而影響檢測結果的準確性的問題，提供一種XRD樣品臺，該XRD樣品臺能夠減少進行XRD檢測的待測樣品暴露于空氣中的時間，提高了檢測結果的準確性。

為了實現上述目的，本發明一方面提供一種XRD樣品臺，所述XRD樣品臺包括用于承載待測樣品的支撐臺以及與所述支撐臺密封連接且罩在所述待測樣品的外部的密封罩，其中，所述密封罩上開設有第一開口和第二開口，所述第一開口上密封地覆蓋有供用于照射所述待測樣品的X射線射入的第一透明膜，所述第二開口上密封地覆蓋有供所述X射線照射所述待測樣品后產生的特征X射線射出的第二透明膜。

優選地，所述密封罩包括相對且間隔設置的一對弧形板以及扣合于一對所述弧形板的弧形邊的弧形蓋，所述第一開口和所述第二開口均設置在所述弧形蓋上。

優選地，所述第一透明膜和所述第二透明膜均呈弧形，和/或所述弧形蓋和所述弧形板之間設置有密封層。

優選地，所述弧形蓋由第一弧形蓋和第二弧形蓋拼合形成，其中，所述第一弧形蓋和所述第二弧形蓋均由拼合處向所述弧形板的弧形邊的底側延伸，所述第一開口和所述第二開口中的一者開設于所述第一弧形蓋，另一者開設于所述第二弧形蓋。

優選地，所述第一弧形蓋和所述第二弧形蓋呈對稱結構，并且/或者，所述第一開口和所述第二開口呈對稱結構。

優選地，所述支撐臺和所述密封罩可拆卸連接；并且/或者，所述XRD樣品臺包括與所述密封罩的內部相連通的用于抽取所述密封罩內的空氣的至少一個連通管件。