[發(fā)明專利]一種基于X射線的LED芯片缺陷自動檢測設(shè)備及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710829085.8 | 申請日: | 2017-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN107505341B | 公開(公告)日: | 2020-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳中毅;袁剛;鄭健;馬昌玉;劉兆邦;范梅生;楊曉冬 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院蘇州生物醫(yī)學(xué)工程技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | G01N23/04 | 分類號: | G01N23/04 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)大卓悅知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 韓飛 |
| 地址: | 215163 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 射線 led 芯片 缺陷 自動檢測 設(shè)備 方法 | ||
1.一種應(yīng)用基于X射線的LED芯片缺陷自動檢測設(shè)備進(jìn)行檢測的方法,所述基于X射線的LED芯片缺陷自動檢測設(shè)備包括:
X射線檢測主體及設(shè)于所述X射線檢測主體外圍的屏蔽殼體;
其中,所述X射線檢測主體具有:
X射線源,其產(chǎn)生的X射線照射置于載物臺上的待檢芯片;
探測器,其探測穿過所述待檢芯片的X射線;
芯片夾具,其以可脫離的形式定位于所述載物臺上,所述芯片夾具設(shè)有若干個芯片槽;
運(yùn)動平臺,其被配置為實現(xiàn)載物臺在X、Y和Z三方向上的運(yùn)動;以及
控制系統(tǒng),其被配置為實時獲取所述運(yùn)動平臺的位置坐標(biāo),并按一定路徑驅(qū)動所述運(yùn)動平臺;
所述芯片夾具設(shè)有標(biāo)識單元,用以標(biāo)識芯片夾具的類型和待檢芯片的數(shù)量;
其特征在于,所述應(yīng)用基于X射線的LED芯片缺陷自動檢測設(shè)備進(jìn)行檢測的方法包括以下步驟:
步驟1:將待檢芯片置于芯片夾具中,關(guān)閉屏蔽門,開啟X射線源和探測器,檢測設(shè)備根據(jù)芯片夾具上的標(biāo)識單元確定芯片夾具的類型和待檢芯片的數(shù)量,并設(shè)定相應(yīng)的運(yùn)動方案;
步驟2:控制運(yùn)動平臺調(diào)整載物臺在X和Y向的位置,使第一待檢芯片置于探測器的視野中心,得到第一探測圖像;
步驟3:利用邊緣檢測算法對所述第一探測圖像進(jìn)行處理,得到待檢芯片的高度位置數(shù)據(jù),并根據(jù)所述高度位置數(shù)據(jù)控制運(yùn)動平臺調(diào)整芯片在Z向上的高度,得到第二探測圖像;
步驟4:根據(jù)所述第二探測圖像的信息調(diào)整X射線源的曝光劑量與曝光時間,得到合適的采集信號對比度,然后開始采集芯片目標(biāo)圖像;
步驟5:采用圖像腐蝕算法對所述芯片目標(biāo)圖像進(jìn)行處理,計算得到芯片內(nèi)部氣泡所占的面積,評估芯片焊接質(zhì)量,并將掃描結(jié)果保存于指定文件夾;
步驟6:控制運(yùn)動平臺移動下一待檢芯片到檢測位置,重復(fù)步驟1-步驟5,直至完成所有芯片的掃描,并生成掃描報表。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,采用圖像腐蝕算法對所述芯片目標(biāo)圖像進(jìn)行處理的步驟為:
步驟1:對所述芯片目標(biāo)圖像進(jìn)行第一高斯平滑處理,得到圖像J;
步驟2:通過CANNY算子對所述圖像J進(jìn)行邊緣檢測算法處理,得到圖像K;
步驟3:對所述圖像K進(jìn)行第二高斯平滑處理,通過設(shè)置閾值裁減掉所述圖像K四周的干擾,得到圖像L;
步驟4:對所述圖像L依次進(jìn)行膨脹處理和腐蝕處理,區(qū)分出缺陷邊界,得到圖像M;
步驟5:對所述圖像M進(jìn)行霍夫變換,識別缺陷部位,完成對所述圖像M的分割并標(biāo)記所述缺陷部位,得到圖像G。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,X射線檢測主體設(shè)于一可移動的底板上,所述屏蔽殼體外側(cè)還設(shè)有用于放置顯示裝置和輸入裝置的支撐架;
其中,所述顯示裝置和輸入裝置分別電連接于所述控制系統(tǒng)。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,不同類型的所述芯片夾具的尺寸和厚度相同,所述載物臺設(shè)有凹槽,所述芯片夾具以可脫離的形式嵌入所述凹槽。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述標(biāo)識單元為設(shè)于所述芯片夾具的若干個不同位置的標(biāo)識點。
6.如權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述標(biāo)識點為與所述芯片夾具一體成型的凹孔或凸點。
7.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述芯片夾具為鋼質(zhì)夾具,所述屏蔽殼體由鉛板制成,所述鉛板的鉛當(dāng)量不小于3mm。
8.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述X射線源為微焦點X射線源。
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