[發明專利]一種復合目標源及光電經緯儀成像質量測試系統

有效

• 申請號: 201710828504.6
• 申請日: 2017-09-14
• 公開（公告）號: CN107806855B
• 公開（公告）日: 2019-09-10
• 發明（設計）人: 張寧;葉露;宋瑩;吳瑾;沈湘衡
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G01C1/02
• 分類號: G01C1/02
• 代理公司: 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 趙勍毅

1.一種用于光電經緯儀的成像質量評價測試系統的復合目標源，其特征在于，所述復合目標源包括：

第一目標裝置，用于產生調制傳遞函數指標的第一目標源；

第二目標裝置，用于產生圖像清晰度特征向量的第二目標源；

切換定位裝置，根據控制命令切換所述第一目標源和所述第二目標源，且將相應的第一目標裝置或第二目標裝置定位至所需位置。

2.根據權利要求1所述的復合目標源，其特征在于，所述第一目標源包括星點、十字絲、狹縫或刀口。

3.根據權利要求1所述的復合目標源，其特征在于，所述第二目標源包括多種灰度層次的景物圖像。

4.根據權利要求1所述的復合目標源，其特征在于，所述第一目標裝置包括：

第一光源；

第一穩壓電源，與所述第一光源電連接，為所述第一光源提供能源；

均勻機構，與所述第一光源連接，對所述第一光源進行光源均勻化處理；

第一目標靶，接收所述均勻化的光源且產生第一目標源；

第一支撐結構，將所述第一目標裝置固定在所述切換定位裝置上。

5.根據權利要求4所述的復合目標源，其特征在于，所述均勻機構包括第一積分球、第二積分球以及位于所述第一積分球和第二積分球之間的可調光闌。

6.根據權利要求4所述的復合目標源，其特征在于，所述第一目標靶包括狹縫靶或刀口靶。

7.根據權利要求1所述的復合目標源，其特征在于，所述第二目標裝置包括：

第二光源；

第二穩壓電源，與所述第二光源電連接，為所述第二光源提供能源；

聚光系統，對所述第二光源產生的光進行會聚；

數字微鏡器件，對經過聚光系統的光進行反射；

數字微鏡驅動電路，與所述數字微鏡器件連接，用于驅動所述數字微鏡器件進行翻轉；

控制器，與所述數字微鏡驅動電路連接，發送控制信號，且用于生成景物圖像；

第二支撐機構，將所述第二目標裝置固定在所述切換定位裝置上。

8.根據權利要求1所述的復合目標源，其特征在于，所述切換定位裝置包括：

直線電機，包括直線電機動子組件，所述第一目標裝置和所述第二目標裝置位于所述直線電機動子組件上；

直線電機驅動器，連接所述直線電機，用于驅動所述直線電機運動；

導軌及第三支撐機構，為所述直線電機動子組件提供運動導向及支撐；

位置測量件，位于所述直線電機上，用于測量所述第一目標裝置或所述第二目標裝置的位置；

控制器，與所述直線電機驅動器連接，發送控制信號。

9.根據權利要求8所述的復合目標源，其特征在于，所述位置測量件為直線光柵尺。

10.一種用于評價光電經緯儀像質的測試系統，其特征在于，包括：

光電經緯儀、平行光管以及如權利要求1至9中任意一種所述的復合目標源；

所述復合目標源產生的模擬目標出瞳位于所述平行光管的焦點位置。