[發明專利]在氫化物中控制低能核反應，以及自主控制的發熱模組

有效

• 申請號: 201710822420.1
• 申請日: 2014-02-26
• 公開（公告）號: CN107742539B
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: 羅伯特·E.·戈德斯;戴維·克萊依雅;羅納德·D.·格倫本
• 申請（專利權）人: 布里淵能源公司
• 主分類號: G21B3/00
• 分類號: G21B3/00;F17D3/03;F17D1/02
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 任兵;南霆

1.一種反應器系統，具有：

具有內部的氣體封閉區，

具有由晶格材料組成的晶格結構的反應器核心，該晶格材料可以吸收反應物氣體，該晶格結構被暴露于該氣體封閉區的內部；

聲子產生器，提供對晶格結構的聲子激勵，該聲子激勵提供能量給被晶格所吸收的反應物氣體中的反應物，用以進行核子反應；以及

耦合至氣體封閉區的氣體攜帶系統，該氣體攜帶系統被配置提供至少該反應氣體以及一惰性攜帶氣體，依照可控比例，至氣體封閉區內部，以及從氣體封閉區內部接收再循環的氣體。

2.如權利要求1所述的反應器系統，其中該氣體攜帶系統包括：

氣體路由器，具有接收惰性攜帶氣體的攜帶氣體氣門，接收反應物氣體的反應物體氣體氣門，提供輸出氣體至氣體封閉區內部的反應器入口氣門，和從氣體封閉區接收再循環氣體的反應器回歸氣門，該氣體路由器具有內部的相互連接如下：

所述攜帶氣體氣門通過一預開閥門與反應器入口氣門流體連通，

所述反應物氣體氣門通過一預關閥門與反應器入口氣門流體連通，以及

所述反應器回歸氣門，通過一預關閥門與反應器入口氣門流體連通。

3.如權利要求1所述的反應器系統，其中該氣體封閉區包括可導電層，被設置使得在所述晶格結構和該可導電層之間形成傳導線。

4.如權利要求1所述的反應器系統，其中該反應器核心為管狀，并包括多個同軸層，包括：

金屬外層；

介電層設置在所述金屬外層內；及

晶格層設置在所述介電層內,晶格層由晶格材料組成，所述晶格結構包括該晶格層，

所述反應氣體流過由晶格層環繞的中心同軸區域。

5.如權利要求4所述的反應器系統，其中該反應器核心為管狀，并包括多個同軸層，包括：

不銹鋼管；以及

設置在該不銹鋼管外表面外部的晶格材料的晶格層，所述晶格結構包括該晶格層。

6.如權利要求5所述的反應器系統，其中該多個同軸層進一步包括：

設置在該不銹鋼管外表面的銅層；以及

設置在銅層上的介電層，

所述晶格層被設置在介電層上。

7.如權利要求1所述的反應器系統，其中該聲子產生器包括電脈沖產生器。

8.如權利要求1所述的反應器系統，其中該反應氣體包括氫。

9.如權利要求8所述的反應器系統，其中該聲子激勵驅動氫的核反應。

10.如權利要求1所述的反應器系統，其中該晶格材料是過渡金屬。