[發(fā)明專(zhuān)利]人工晶體成型模具

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710821068.X
• 申請(qǐng)日: 2017-09-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108081512B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-04-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅敏;曹立
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東莞東陽(yáng)光醫(yī)療智能器件研發(fā)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B29C33/00
• 分類(lèi)號(hào): B29C33/00;B29C33/30;A61F2/16
• 代理公司: 北京品源專(zhuān)利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

本發(fā)明公開(kāi)一種人工晶體成型模具，包括陽(yáng)模和陰模，陽(yáng)模的中部設(shè)置有第一光學(xué)區(qū)，陽(yáng)模上繞圓周方向旋轉(zhuǎn)延伸設(shè)置有定位凸臺(tái)，陰模的中部設(shè)置有第二光學(xué)區(qū)，陰模繞圓周方向旋轉(zhuǎn)延伸設(shè)置有定位凹槽；定位凸臺(tái)的高度小于定位凹槽的深度，合模狀態(tài)下定位凸臺(tái)插入定位凹槽中，定位凸臺(tái)與定位凹槽之間的間隙形成余液槽，定位凸臺(tái)的旋轉(zhuǎn)軸與定位凹槽的旋轉(zhuǎn)軸在同一條直線(xiàn)上；定位凸臺(tái)上開(kāi)設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)通口，導(dǎo)通口的一端與余液槽連通，導(dǎo)通口的另一端與外界空氣連通。本方案通過(guò)余液槽實(shí)現(xiàn)成型腔內(nèi)的多余的反應(yīng)液的排放，同時(shí)通過(guò)在定位凸臺(tái)上開(kāi)設(shè)導(dǎo)通口，使余液槽與外界空氣連通，有效消除反應(yīng)液膨脹產(chǎn)生的內(nèi)壓力。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及模具技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種人工晶體成型模具。

背景技術(shù)

如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)的人工晶體成型模具分為上下兩部分，上部分命名為陽(yáng)模100，下部分命名為陰模200。陽(yáng)模100和陰模200結(jié)合會(huì)形成一個(gè)空腔300，人工晶體即在該空腔300內(nèi)成型。

在晶體半成品生產(chǎn)中，需要加入反應(yīng)液到陰模200中，且加入的反應(yīng)液的量必須多于模具成型實(shí)際需求的量。另外，模具成型需經(jīng)歷聚合成型過(guò)程，反應(yīng)液在聚合成型過(guò)程中會(huì)發(fā)生膨脹(試驗(yàn)顯示膨脹率在5％左右)，膨脹必然導(dǎo)致空腔300內(nèi)的液體形成內(nèi)壓力，對(duì)模具或者產(chǎn)品區(qū)的成型造成沖擊，使光學(xué)面成型因素更加復(fù)雜，成型效果更難于控制。

現(xiàn)有技術(shù)公開(kāi)了一種模具設(shè)計(jì)，如圖2所示，包括陽(yáng)模100和陰模200，陽(yáng)模100和陰模200結(jié)合會(huì)形成一個(gè)空腔，空腔包括產(chǎn)品區(qū)和排液區(qū)400，使用時(shí)多余的反應(yīng)液將會(huì)被排至產(chǎn)品區(qū)以外的排液區(qū)400內(nèi)，以該排液區(qū)400作為多余反應(yīng)液的儲(chǔ)存腔。但在現(xiàn)有技術(shù)中作為排液區(qū)400的儲(chǔ)存腔是密閉的腔室，在反應(yīng)液的聚合成型過(guò)程中仍然會(huì)產(chǎn)生內(nèi)壓力，從而對(duì)模具成型造成沖擊，影響成型效果。

基于上述情況，我們需要考慮和重視合模過(guò)程中多余的反應(yīng)液如何處理的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的一個(gè)目的在于：提供一種人工晶體成型模具，能有效地將多余的反應(yīng)液排出。

本發(fā)明的一個(gè)目的在于：提供一種人工晶體成型模具，能使排出的反應(yīng)液與外界連通，消除膨脹產(chǎn)生的內(nèi)壓力對(duì)模具成型的不良影響。

為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種人工晶體成型模具，包括陽(yáng)模和陰模，所述陽(yáng)模的中部設(shè)置有第一光學(xué)區(qū)，所述陽(yáng)模上繞圓周方向旋轉(zhuǎn)延伸設(shè)置有定位凸臺(tái)，所述陰模的中部設(shè)置有第二光學(xué)區(qū)，所述陰模繞圓周方向旋轉(zhuǎn)延伸設(shè)置有定位凹槽；

所述定位凸臺(tái)的高度小于所述定位凹槽的深度，合模狀態(tài)下所述定位凸臺(tái)插入所述定位凹槽中，所述定位凸臺(tái)與所述定位凹槽之間的間隙形成余液槽，所述定位凸臺(tái)的旋轉(zhuǎn)軸與所述定位凹槽的旋轉(zhuǎn)軸在同一條直線(xiàn)上；

所述定位凸臺(tái)上開(kāi)設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)通口，所述導(dǎo)通口的一端與所述余液槽連通，所述導(dǎo)通口的另一端與外界空氣連通。

優(yōu)選的，所述第一光學(xué)區(qū)與所述第二光學(xué)區(qū)以及光學(xué)區(qū)的外圍區(qū)域共同形成人工晶體的成型腔，所述成型腔與所述余液槽共同構(gòu)成所述陽(yáng)模與所述陰模之間的空腔。

優(yōu)選的，所述定位凸臺(tái)設(shè)置在所述陽(yáng)模的底部，所述定位凹槽設(shè)置在所述陰模的頂部。

優(yōu)選的，所述定位凸臺(tái)位于所述第一光學(xué)區(qū)的外側(cè)，所述定位凹槽位于所述第二光學(xué)區(qū)的外側(cè)。

具體地，在模具的使用過(guò)程中，先將過(guò)量的反應(yīng)液注入所述陰模的第二光學(xué)區(qū)內(nèi)，接著將所述陽(yáng)模覆蓋在所述陰模的上方，并使所述陽(yáng)模與所述陰模緊密貼合，使所述成型腔內(nèi)多余的反應(yīng)液被擠壓進(jìn)入所述余液槽，實(shí)現(xiàn)多余反應(yīng)液的排放，最后在聚合成型過(guò)程中，反應(yīng)液發(fā)生膨脹，但由于所述定位凸臺(tái)上開(kāi)設(shè)有所述導(dǎo)通口，使所述余液槽與外界空氣連通，從而使反應(yīng)液有充足的膨脹空間，消除內(nèi)壓力，有效保證人工晶體成型的穩(wěn)定性和可靠性。