[發明專利]電化學反應裝置

在審

• 申請號: 201710820977.1
• 申請日: 2017-09-13
• 公開（公告）號: CN108624896A
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: 小野昭彥;御子柴智;工藤由紀;山際正和;田村淳;菅野義經;北川良太;堤榮史;元茂朝日;塚越隆行
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: C25B1/00
• 分類號: C25B1/00;C25B3/04;C25B9/10;C25B11/02
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 陳建全

1.一種電化學反應裝置，其具備：

陽極，其用于對水進行氧化而生成氧；

電解液流路，其面向所述陽極，是為了供含有所述水的電解液流動而設置的；

陰極，其具備：多孔導電層，該多孔導電層具有第1表面和第2表面；和還原催化劑層，該還原催化劑層具有與所述第1表面接觸的第3表面且含有用于對二氧化碳進行還原而生成碳化合物的還原催化劑；

隔板，其使所述陽極和所述陰極分離；

電源，其與所述陽極和所述陰極電連接；

流路板，其具備：第4表面，該第4表面與所述第2表面接觸；和流路，該流路是為了供所述二氧化碳流動而設置的且面向所述第2表面，

所述第2表面與所述流路的重疊部的面積相對于所述第2表面的面積之比為0.5～0.85。

2.根據權利要求1所述的電化學反應裝置，其中，

所述第3表面與所述流路的重疊部的面積相對于所述第3表面的面積之比為0.5～0.85。

3.根據權利要求1或2所述的電化學反應裝置，其中，

所述流路具有：第1區域，該第1區域沿著所述第4表面延伸；第2區域，該第2區域以從所述第1區域沿著所述第4表面折回的方式延伸；和第3區域，該第3區域從所述第2區域沿著所述第1區域延伸，

所述第1區域的平均寬度相對于所述第1區域與所述第3區域之間的平均寬度之比為1.5～5。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的電化學反應裝置，其中，

除去將所述第2表面與所述流路的重疊部的各頂點中的內角小于180度的頂點進行連結而成的多邊形以外的所述第2表面的剩余部分的面積相對于所述第2表面的面積之比為1/6以下。

5.根據權利要求1～3中任一項所述的電化學反應裝置，其中，

除去將所述第3表面與所述流路的重疊部的各頂點中的內角小于180度的頂點進行連結而成的多邊形以外的所述第3表面的剩余部分的面積相對于所述第3表面的面積之比為1/6以下。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的電化學反應裝置，其中，

從多個第1分割線與多個第2分割線的交點分別到所述第2表面與所述流路的重疊部的最短距離的標準偏差為0.8以下，該多個第1分割線將除去所述第2表面與所述流路的重疊部以外的所述第2表面與所述第4表面的重疊部的剩余部分沿著所述第4表面的第1方向按照每隔0.1mm進行劃分，該多個第2分割線將所述剩余部分沿著沿所述第4表面與所述第1方向正交的第2方向按照每隔0.1mm進行劃分。

7.根據權利要求1～5中任一項所述的電化學反應裝置，其中，

從多個第1分割線與多個第2分割線的交點分別到所述第3表面與所述流路的重疊部的最短距離的標準偏差為0.8以下，該多個第1分割線將除去所述第3表面與所述流路的重疊部以外的所述第3表面與所述第4表面的重疊部的剩余部分沿著所述第4表面的第1方向按照每隔0.1mm進行劃分，該多個第2分割線將所述剩余部分沿著沿所述第4表面與所述第1方向正交的第2方向按照每隔0.1mm進行劃分。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的電化學反應裝置，其中，

從多個第1分割線與多個第2分割線的交點分別到所述第2表面與所述流路的重疊部的最短距離為0.5mm以上的所述交點的個數為全部所述交點數的30％以下，該多個第1分割線將除去所述第2表面與所述流路的重疊部以外的所述第2表面與所述第4表面的重疊部的剩余部分沿著所述第4表面的第1方向按照每隔0.1mm進行劃分，該多個第2分割線將所述剩余部分沿著沿所述第4表面與所述第1方向正交的第2方向按照每隔0.1mm進行劃分。

9.根據權利要求1～7中任一項所述的電化學反應裝置，其中，

從多個第1分割線與多個第2分割線的交點分別到所述第3表面與所述流路的重疊部的最短距離為0.5mm以上的所述交點的個數為全部所述交點數的30％以下，該多個第1分割線將除去所述第3表面與所述流路的重疊部以外的所述第3表面與所述第4表面的重疊部的剩余部分沿著所述第3表面的第1方向按照每隔0.1mm進行劃分，該多個第2分割線沿著沿所述第3表面與所述第1方向正交的第2方向將所述剩余部分按照每隔0.1mm進行劃分。