[發明專利]一種溫控操作臺

在審

• 申請號: 201710819770.2
• 申請日: 2017-09-13
• 公開（公告）號: CN107374050A
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發明（設計）人: 曹祥記;陳平;朱年華
• 申請（專利權）人: 比赫電氣（太倉）有限公司
• 主分類號: A47B37/00
• 分類號: A47B37/00;A47B31/02;A47B97/00
• 代理公司: 蘇州市方略專利代理事務所(普通合伙)32267
• 代理人: 馬廣旭

技術領域

本發明涉及一種恒溫操作臺，具體涉及一種溫控操作臺。

背景技術

低溫加工是指在低溫環境下進行的特殊制造過程,它利用低溫下各種材料的物理化學性質,實現特定的加工目的,在許多場合下具有獨到優點。對低溫加工技術在光學、生物、化學、機械、電子和輕工業等行業中材料或器件的加工中的應用作了簡要分析,并指出低溫加工學有必要作為一門專門的學科來加以系統深入地研究。

隨著社會發展低溫加工用途越發廣泛，低溫加工對設備要求越來越高。

傳統恒溫操作臺，在操作面板下方設置制冷盤管以完成控溫需求，但是此種操作臺控溫效果差，容易使操作對象融化，若降低操作面板溫度，則會造成局部溫度過低等現象，尤其在冰雕加工中使用效果較差。因此需要一種高效全方位的溫控操作平臺。

發明內容

為解決上述存在的問題，本發明的目的在于提供一種溫控操作臺，其在操作面板周圍設有冷風口，可對操作面板上方一定高度區域進行冷風吹風，形成立體低溫區域，具有廣泛的適用性。

為達到上述目的，本發明的技術方案是：

一種溫控操作臺，其特征在于，包括工作臺，所述工作臺下方后部設有制冷系統、前部設有空洞，所述工作臺包括若干支撐腿及操作面板，所述操作面板設置于支撐腿上方，所述操作面板內部設有制冷盤管，所述操作面板上方左右兩側及后部設有冷風口，所述操作面板上方后部設有板墻，所述操作面板上方設有漏孔面板。使用時，操作臺面與冷風口同時工作，由于冷風口具有一定高度，可以在其圍成的區域內形成一個立體的低溫區域，從而增加低溫區域的高度，增加恒溫操作臺的適用性。設備散熱設計在后部，板墻可以有效隔絕設備散發的熱量，避免低溫區受外界影響。所述漏孔面板可以碎屑及液體即使漏入下層的操作面板，避免其對加工產生不利影響。

作為上述方案的進一步改進，所述工作臺設有控制系統，所述控制系統包括控制設備、按鍵及顯示器，所述按鍵及顯示器設置于板墻上。該設計可以便于操作，可以通過控制裝置完成溫度監控、制冷模式調節等多種操作。

作為上述方案的進一步改進，所述板墻設有若干照明燈組成無影燈系統。該設計可以為操作面板提供穩定易用的光源。

作為上述方案的進一步改進，所述板墻設有若干電源插口。該設計可以連接多種加工設備，通過易用性。

作為上述方案的進一步改進，所述操作面板以中部為高點向左右兩側及后部設有落水坡。該設計可以使碎冰及融化的液體沿落水坡留下，避免其對加工造成影響。

作為上述方案的進一步改進，所述操作臺面左右兩側及后部邊緣設有排水槽。該設計可以定點收集廢水，避免廢水流到地面污染環境或造成加工者滑到事故。

作為上述方案的進一步改進，所述制冷盤管下方設有保溫層。該設計可以節能，也可以使操作臺面下方保持一定溫度，提高操作者這操作舒適度。

與現有技術相比，本發明的有益效果在于：

其在操作面板周圍設有冷風口，可對操作面板上方一定高度區域進行冷風吹風，形成立體低溫區域，具有廣泛的適用性。

附圖說明

圖1為本發明實施例所提供的一種溫控操作臺結構示意圖。

其中：

1、支撐腿；2、操作面板；3、冷風口；4、板墻；5、按鍵；6、顯示器；7、照明燈；8、電源插口；9、排水槽；10、漏孔面板。

具體實施方式

以下將結合實施方式和附圖對本發明創造的構思、具體結構及產生的具體效果進行清除、完整的描述，以充分的理解本發明創造的目的、特征和效果。本發明創造的各項技術特征，在不互相矛盾沖突的前提可以交互組合。

參見圖1，一種溫控操作臺，其特征在于，包括工作臺，所述工作臺下方后部設有制冷系統、前部設有空洞，所述工作臺包括若干支撐腿1及操作面板2，所述操作面板2設置于支撐腿1上方，所述操作面板2內部設有制冷盤管，所述操作面板2上方左右兩側及后部設有冷風口3，所述操作面板2上方后部設有板墻4，所述操作面板2上方設有漏孔面板10。

所述工作臺設有控制系統，所述控制系統包括控制設備、按鍵5及顯示器6，所述按鍵5及顯示器6設置于板墻4上。

所述板墻4設有若干照明燈7組成無影燈系統。

所述板墻4設有若干電源插口8。

所述操作面板2以中部為高點向左右兩側及后部設有落水坡。所述操作臺面左右兩側及后部邊緣設有排水槽9。

所述制冷盤管下方設有保溫層。

需要說明的是，以上實施例僅用以說明本發明的技術方案而非限制。盡管參照較佳實施例對本發明進行了詳細說明，本領域的普通技術人員應當理解，可以對發明的技術方案進行修改或者等同替換，而不脫離本發明技術方案的范圍，其均應涵蓋在本發明的權利要求范圍中。