[發(fā)明專利]研磨設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710816396.0
• 申請日: 2017-09-12
• 公開（公告）號: CN107813207B
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 賓潤均;樸炳喆
• 申請（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: B24B23/02
• 分類號: B24B23/02;B24B19/20;B24B41/04;B24D7/18
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11204
• 代理人: 王達(dá)佐;劉錚

提供了能夠精確地研磨目標(biāo)的具有復(fù)雜形狀的表面的研磨設(shè)備，所述研磨設(shè)備包括驅(qū)動單元、經(jīng)由驅(qū)動軸連接至驅(qū)動單元的柄部和聯(lián)接至柄部的研磨部分。研磨部分包括磨料層以及處于磨料層和柄部之間的彈性構(gòu)件。

相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求于2016年9月12日提交至韓國知識產(chǎn)權(quán)局(KIPO)的第10-2016-0117392號韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益，該韓國專利申請的全部內(nèi)容通過引用并入本文。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開的示例性實(shí)施方式的一個(gè)或多個(gè)方面涉及研磨設(shè)備(lapping device)，以及更具體地，涉及能夠精確地研磨具有復(fù)雜形狀的目標(biāo)的表面的研磨設(shè)備。

背景技術(shù)

研磨設(shè)備可用于研磨各種材料，包括金屬、木材、合成樹脂材料、玻璃材料等。

在要研磨的目標(biāo)包括具有復(fù)雜形狀的表面(例如，曲面)的情況下，傳統(tǒng)的研磨設(shè)備可能無法精確地研磨所述表面。

要理解，背景技術(shù)的該描述旨在提供對于理解本公開有用的背景，并且這樣，背景技術(shù)的描述可包括不構(gòu)成到本文公開的主題的對應(yīng)有效提交日期為止相關(guān)領(lǐng)域技術(shù)人員所公知或認(rèn)識到的事物的一部分的想法、構(gòu)思或認(rèn)知。

發(fā)明內(nèi)容

本公開的實(shí)施方式的方面指向能夠精確地研磨目標(biāo)的具有復(fù)雜形狀的表面的研磨設(shè)備。

根據(jù)本公開的一些實(shí)施方式，研磨設(shè)備包括驅(qū)動單元、經(jīng)由驅(qū)動軸連接至驅(qū)動單元的柄部(shank)和聯(lián)接至柄部的研磨部分。研磨部分包括磨料層(abrasive layer)以及處于磨料層和柄部之間的彈性構(gòu)件。

在一些實(shí)施方式中，磨料層可包括砂紙。

在一些實(shí)施方式中，彈性構(gòu)件可以是海綿。

在一些實(shí)施方式中，研磨設(shè)備還可包括處于彈性構(gòu)件和柄部之間的粘合物。

研磨部分的第一部分可位于柄部的末端部分處，并且研磨部分的第二部分可位于柄部的外圓周面處。

研磨部分的第一部分可具有直線形狀、十字形狀、Y形形狀、星(*)形形狀和#形形狀之一。

研磨部分的第二部分可具有直線形狀。

柄部可具有供彈性構(gòu)件的至少一部分插入到其中的凹槽。

當(dāng)彈性構(gòu)件位于柄部的凹槽中時(shí)，彈性構(gòu)件的一部分可凸出到凹槽的外部。

凹槽的第一部分可位于柄部的末端部分處，并且凹槽的第二部分可位于柄部的外圓周面處。

凹槽的第一部分可具有直線形狀、十字形狀、Y形形狀、星(*)形形狀和#形形狀之一。

凹槽的第二部分可具有直線形狀。

研磨設(shè)備還可包括包圍柄部的外圓周面的固定部分以及在柄部的外圓周面上的研磨部分。

固定部分可具有供研磨部分的一部分和柄部的一部分通過其暴露的孔或開口(例如，研磨部分和柄部可插入到固定部分的孔中，使得研磨部分和柄部延伸通過孔并且延伸到固定部分的外部)。

前述僅僅是說明性的且并非旨在以任何方式進(jìn)行限制。除了上面描述的說明性的方面、示例性實(shí)施方式和特征之外，更多的方面、示例性實(shí)施方式和特征將通過參考附圖和以下詳細(xì)說明變得顯而易見。

附圖說明

當(dāng)結(jié)合附圖考慮時(shí)，通過參考以下詳細(xì)說明，本公開的上述有益效果和其他有益效果將變得更加明顯，在附圖中：

圖1是示出根據(jù)一些實(shí)施方式的研磨設(shè)備的立體圖；

圖2是示出圖1的輪單元的放大圖；