[發(fā)明專利]近紅外線截止濾光片及其制造工藝

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710811266.8
• 申請日: 2017-09-11
• 公開（公告）號: CN109491003A
• 公開（公告）日: 2019-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 江志鈞;楊明叡;陳哲宇
• 申請（專利權(quán)）人: 白金光學科技（蘇州）有限公司;白金科技股份有限公司
• 主分類號: G02B5/22
• 分類號: G02B5/22;G02B5/20;C03C17/22
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 許志勇;李有財

本發(fā)明涉一種近紅外線截止濾光片及其制造工藝，近紅外線截止濾光片包括玻璃基材及鍍于所述玻璃基材的至少一個表面的至少一層無機紅外線吸收層，每一層無機紅外線吸收層的材料為吸收近紅外線的RCuPO4陶瓷晶體粉末，其中R為堿金金屬或堿土金屬，堿金金屬是選自鋰、鈉、鉀及銣中一者，堿土金屬是選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鋅中一者。每一層無機紅外線吸收層的厚度介于500nm與5000nm間。本申請的無機紅外線吸收層通過PVD制程直接鍍于玻璃基材，以利近紅外線截止濾光片的生產(chǎn)，提升近紅外線截止濾光片的量產(chǎn)性，也使近紅外線截止濾光片符合薄型化的需求。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種濾光片的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種近紅外線截止濾光片及其制造工藝。

背景技術(shù)

近紅外線截止濾光片已廣泛應用于影像傳感器(CCD&CMOS)等攝影組件，其基材可分為無機材(玻璃)、有機材(塑膠)及與有機無機復合材(玻璃+有機染料涂布)等。

使用無機材為基材的近紅外線截止濾光片是如使用含銅的磷酸鹽玻璃或含銅的氟磷酸鹽玻璃為基材的近紅外線截止濾光片，其基材的缺點具有薄化制程易碎與不耐酸堿之性質(zhì)。然目前濾光片的厚度趨向薄型化，基材厚度需小于0.1mm，有一定的制程難度。

使用有機材為基材的近紅外線截止濾光片是如以COC樹脂添加近紅外光吸收型染料形成近近紅外線截止濾光片，其具有較玻璃輕薄化優(yōu)勢。但此濾光片的缺點為其所添加的近紅外光吸收型染料只能吸收特定波段之光線(如波段介于700nm與800nm間)，如須達到700nm與1200nm間的全近紅外光波段吸收，仍需藉由PVD鍍膜方式于近紅外線截止濾光片的表面鍍上一層紅外線截止膜，已達到全近紅外光波段吸收效果。但必須控制PVD鍍膜的溫度，避免有機材料不耐高溫而產(chǎn)生質(zhì)變的問題。

使用有機無機復合材為基材的近紅外線截止濾光片是如以在玻璃基材上涂布有機紅外線吸收層的近紅外線截止濾光片，其玻璃基材可選用強度高且厚度薄(50um與200um間)的透明硼硅酸鹽或鋁硅酸鹽玻璃。但此濾光片的缺點是有機紅外線吸收層所使用的有機染料仍無法達到700nm與1200nm間的全近紅外光波段吸收。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本發(fā)明的目的是提供一種近紅外線截止濾光片及其制造工藝。

為了解決上述技術(shù)問題，本申請揭示了一種近紅外線截止濾光片，其特征在于，包括玻璃基材及鍍于玻璃基材的至少一個表面的至少一層無機紅外線吸收層，每一層無機紅外線吸收層的材料為吸收近紅外線的RCuPO₄陶瓷晶體粉末，其中R為堿金金屬或堿土金屬，堿金金屬是選自鋰、鈉、鉀及銣中一者，堿土金屬是選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鋅中一者；其中每一層無機紅外線吸收層的厚度介于500nm與5000nm間。

本申請更提供一種近紅外線截止濾光片的制造工藝，其特征在于，包括制備RCuPO₄陶瓷晶體粉末；制備RCuPO4陶瓷錠；以及以RCuPO₄陶瓷錠為靶材，并通過PVD制程將RCuPO₄陶瓷晶體鍍于玻璃基材，并于玻璃基材的至少一個表面上形成至少一層無機紅外線吸收層；其中制備RCuPO₄陶瓷晶體粉末的步驟更包括制備RCuPO₄前驅(qū)物，RCuPO₄前驅(qū)物是混合攪拌所述銅源、堿源、磷酸源及檸檬酸水溶液形成，其中銅源、堿源及磷酸源的比例為1:1:1；去除混合溶液的水分而獲得溶膠；去除RCuPO₄溶膠的水分而獲得RCuPO₄起始粉末；研磨RCuPO₄起始粉末成細粉狀RCuPO₄起始粉末；加熱細粉狀RCuPO₄起始粉末而得到RCuPO₄陶瓷晶體粉末；其中R為堿金金屬或堿土金屬，堿金金屬是選自鋰、鈉、鉀及銣中一者，堿土金屬是選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鋅中一者；其中每一層無機紅外線吸收層的厚度介于500nm與5000nm間。